Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9247619 zu verkaufen

ID: 9247619
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
DPS Etcher, 8" Wafer shape: SNNF EMO Type Chamber configuration: Chamber A, B: DPS Metal process chamber Chamber C, D: ASP Process chamber Chamber E: Cool down chamber Chamber F: Orient chamber Load lock: Load lock type: Narrow body Auto rotation Cassette type, 8" Mapping function: FWM Fast vent option Mainframe: AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT Buffer robot Buffer robot blade: Stander blade Status light tower Remote monitor: Table mount (2) Chillers: HX-150 and Stead head0 (2) OEM-12B3 RF Generators Gas panel configuration: VME1 EBARA ET800WS-A Turbo pump NESLAB System II Heat exchanger Control rack Local AC rack Accessories Cables Electrical configuration: Line voltage: 208 V Full load current: 300 A Frequency: 50 / 60 Hz CE Marked 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist ein hocheffizienter, vollautomatischer CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der den anspruchsvollen Produktionsanforderungen der Elektronik-, Optoelektronik-, Hartbeschichtungs- und Solarzellenindustrie gerecht wird. AMAT Centura 5200 bietet sowohl skalierbare als auch modulare Konfigurationen, die die Handhabung unterschiedlichster Materialien und Prozesskammern ermöglichen. Es verwendet horizontale und vertikale thermische Gleichmäßigkeitsstufen, um einen präzisen Abscheidungsprozess zu erfüllen. Die Hochgeschwindigkeitsabscheidung und die verbesserte Reaktorstabilität erhöhen den Durchsatz unter Beibehaltung präziser Ergebnisse. Die Hochtemperatur-Prozesskammern sind so ausgelegt, dass sie einen schnellen Waferdurchsatz und eine präzise Abscheidungssteuerung ermöglichen. Das fortschrittliche Werkzeug zur physikalischen Bedampfung bietet hochpräzise Materialbeschaffung, dynamische Gassteuerung und benutzerdefinierte Gasflusseinstellungen. Darüber hinaus verfügt es über überlegene Endpunktgenauigkeit und große Nitrid-Verarbeitungskapazität. ANGEWANDTE MATERIALIEN Die Centura 5200 ist sehr vielseitig einsetzbar und bietet fortschrittliche Automatisierungs- und Programmierfähigkeiten, um repetitive Verarbeitungsergebnisse zu erzielen. Seine proprietäre Kammerarchitektur bietet überlegene Temperaturuniformität mit verbesserter Wiederholbarkeit und Gesamtleistungsqualität. Centura 5200 eignet sich für eine Reihe von Materialien, wie Silizium, Aluminiumoxid, Polysilizium und eine Reihe von Metallen und Legierungen, bis zu Temperaturen von 900 ° C Anwendungen. Das System kann für Wafergrößen von 4 bis 8 Zoll konfiguriert werden, was eine verbesserte Flexibilität bietet. Das gesamte Wartungspaket von AMAT umfasst umfassende präventive Wartung, technischen IT-Support und Software-Upgrades. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist ein leistungsstarker und zuverlässiger CVD-Reaktor, der auf fortschrittliche Materialabscheidung ohne langwierige Kühl- und Heizzyklen zugeschnitten ist. Das System ist eine ideale Lösung für Hersteller, die die Effizienz steigern und die Prozessleistung verbessern möchten.
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