Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9248821 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Atmosphärendruck CVD/PECVD Reaktor, ist ein fortschrittliches Plasma unterstützt chemische Dampfabscheidung Ausrüstung zur Abscheidung von Dünnschichten für MEMS, High-K, Barriere, dielektrische, anisotrope und Low-K-Anwendungen. Es verfügt über ein sehr vielseitiges Kammerdesign, um die Anforderungen der nächsten Generation von Technologieknoten zu erfüllen, indem es Gleichmäßigkeit und Selektivität für hohe Seitenverhältnisse bei niedriger Temperatur bietet. Das AMAT Centura 5200 Reaktorsystem umfasst eine 4-Zoll-Quarzkammer, Prozessdrucksteuerung, Mehrgaseinspritzung, volle Funktionsraumheizung und Temperaturregelung, bis zu 254 MHz HF-Plasmaquellen und eine Turbulenzstrom-Pumpeinheit. Die Kammer ist für den Betrieb in einer Reihe von Atmosphäre und Temperatur ausgelegt und bietet einen breiten Verarbeitungsbereich von 300 mTorr bis 760 Torr. Es ist mit zwei 254 MHz 13.56Mhz HF-Vorspannungsquellen ausgestattet, die insgesamt bis zu 500 Watt Leistung bieten. Die verschiedenen Prozesskonfigurationen ermöglichen den gleichzeitigen Betrieb mehrerer Ablagerungsrezepte. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 Reaktormaschine verfügt auch über detaillierte Prozesssteuerungsfunktionen, mit denen Sie reaktive Gasströmung, Prozessdruck, Kammertemperatur und Oberflächentemperatur individuell für jedes Prozessrezept anpassen, überwachen und optimieren können. Es enthält auch eine Benutzeroberfläche für die Prozessüberwachung, die eine einfache Einrichtung von Werkzeugen und Rezept-Tests ermöglicht. Erweiterte Datenerfassungsfunktionen ermöglichen eine kontinuierliche Überwachung des Abscheidungsprozesses. Centura 5200 Reaktor unterstützt auch erweiterte Abscheidungssteuerungsfunktionen wie Echtzeit-Prozess-Überwachung und Live-Profil-Messungen für Geschwindigkeit und Schicht Gleichmäßigkeit Optimierung. Die fortschrittliche plasmaunterstützte Abscheidungstechnologie des Reaktors ermöglicht die Niedertemperaturabscheidung von Hochtemperaturprozessschritten, wodurch das Risiko von Substratschäden und Verunreinigungen minimiert wird. Es ist auch mit Hochtemperatur-Ätzfunktionen für flexiblere Prozessrezepte ausgestattet. Diese fortschrittliche Reaktoranlage ermöglicht es Ihnen, eine breite Palette von Prozesszielen zu erreichen und gleichzeitig eine optimale Prozessqualität zu erhalten. Es eignet sich gut für Prototypen- und Kleinsensorproduktion, Forschung und Entwicklung sowie für neue Technologieentwicklungslabore.