Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9253559 zu verkaufen

AMAT (APPLIED MATERIALS) AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Reaktor ist eine fortschrittliche Prozesskammer für Oxid, Nitrid und andere Materialien. Dieser Reaktor wird hauptsächlich für die Herstellung von Halbleitern und erweiterten Verpackungsgeräten verwendet und ist einer der beliebtesten und vielseitigsten Reaktoren für diese Bereiche. Es verfügt über Mehrzweckfunktionen und bietet erweiterte Funktionen für überlegene Produktionserträge. Der AMAT Centura 5200 Reaktor ist eine hochflexible, fortschrittliche Prozesskammer mit einer maximalen Verarbeitungskammerkapazität von 2,5-16 Kubikfuß und mehr als 0,1 mTorr Drucknote. Es verfügt über eine Vielzahl von Prozessfähigkeiten, einschließlich plasmaverstärkte chemische Dampfabscheidung (PECVD), atmosphärische und Niederdruck chemische Dampfabscheidung (APCVD und LPCVD), Hoch- und Tieftemperaturglühen und schnelle thermische Verarbeitung (RTP). Es ist mit einem zum Patent angemeldeten „Cool Edge“ -Merkmal für eine verringerte thermische Beanspruchung des Prozesssubstrats und einem integrierten Zwei-Mikrometer-Substratnivellier- und Kontaktsystem für eine verbesserte Präzision der Substratnivellierung ausgestattet. Es verfügt auch über eine umfassende Suite von zusätzlichen Funktionen und Vorteilen, wie: Adaptive tune-up automatisierte Kammer Optimierungssystem, Präzisions-Substrat-Nivellierer mit integriertem Dual-Mikrometer-Kontaktsystem, Dual-Port-Pumpstation, in sich geschlossene Stromversorgung und Gas-Liefersystem mit Ultra-Flow-Technologie. Es wurde entwickelt, um den Produktionsanforderungen einer ganzen Reihe von Halbleiterbauelementen wie: Einkristallwafer, MEMS, CMOS, ICs und andere fortschrittliche Verpackungsbauelemente gerecht zu werden. Die verbesserte Prozessleistung und Zuverlässigkeit des EINSATZMATERIALIEN Centura 5200 Reaktors verbessert die Gesamtausbeute und Prozesskonsistenz und ermöglicht die Herstellung zuverlässigerer Produkte. Seine kompakte Bauweise und Benutzerfreundlichkeit machen es ideal für Forschungs- und Produktionsanwendungen. Seine zuverlässige Leistung und sein breites Spektrum an Prozessfähigkeiten machen es zur perfekten Wahl für eine moderne Halbleiterherstellungsumgebung.