Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9256948 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist ein Reaktor auf Plasmabasis, der für fortschrittliche plasmaverbesserte Aufdampfverfahren entwickelt wurde. Der Reaktor wird zur Dünnschichtabscheidung auf verschiedenen Substraten eingesetzt. Der Reaktor ist mit einem Präzisionsquellen-Gasfördersystem ausgestattet, das in der Lage ist, während des Abscheideprozesses eine beispiellose Kontrolle und Präzision zu gewährleisten. Das Quellgas wird verwendet, um eine gleichmäßige Plasmaumgebung in der Prozesskammer zu schaffen, die eine genaue Kontrolle der Abscheiderate, Temperatur und Gleichmäßigkeit auf dem Substratmaterial ermöglicht. Die AMAT Centura 5200 verfügt über eine automatisierte Kammergeometrie, die den Zeitaufwand für Reinigung und Wartung reduziert und gleichzeitig die manuelle Ausrichtung minimiert. Es ist auch mit einem integrierten Plasmagenerator ausgestattet, der das Substrat und andere Komponenten durch eine präzise Vorheiz- und Nachwärmebehandlungszone drückt, um sicherzustellen, dass alle während des Abscheidungsprozesses verwendeten Materialien ordnungsgemäß behandelt und vor der Abscheidung vorgewärmt werden. Der Reaktor ist mit fortschrittlichen Rückkopplungsregelungssystemen ausgestattet, die es dem Benutzer ermöglichen, die laufenden Prozessparameter zu überwachen und die Genauigkeit des Prozesses nach Bedarf anzupassen. Das Feedback ermöglicht es dem Anwender auch, prozessspezifische Parameter festzulegen, was zu konsistenteren und wiederholbaren Ergebnissen aus dem Reaktor führt. Der fortschrittliche Plasmagenerator sorgt für eine gleichmäßige Plasmaumgebung in der gesamten Prozesskammer, was zu einer sehr gleichmäßigen Abscheiderate führt. ANGEWANDTE MATERIALIEN Die Centura 5200 ist für hochkomplizierte Prozesse wie große, komplexe Substrate und mehrschichtige Stapelgeometrien konzipiert und eignet sich somit für fortgeschrittene Nanostrukturen und MEMS-Anwendungen. Die Fähigkeit, mehrere Prozessmodule innerhalb derselben Kammer zu betreiben, gewährleistet einen hohen Durchsatz bei hoher Wiederholbarkeit; Darüber hinaus sorgt die automatisierte Kammergeometrie dafür, dass der Anwender komplexe dreidimensionale Abscheidungsaufgaben schnell und präzise ausführen kann und gleichzeitig einen kompakten physikalischen Fußabdruck bietet. Schließlich ist Centura 5200 ein High-End-Reaktor mit einer Vielzahl von Nicht-Standard-Funktionen, die es perfekt für fortschrittliche und innovative Anwendungen machen. Das integrierte Quellgasfördersystem, die automatisierte Kammergeometrie und die fortschrittliche Plasmaerzeugung ermöglichen eine beispiellose Kontrolle und Präzision während des Abscheidungsprozesses, während der modulare Aufbau es einfach macht, Systemfunktionen nach Bedarf zu ändern oder zu aktualisieren. Alle kombiniert, machen diese Eigenschaften AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 eine ideale Wahl für fortschrittliche Dünnschichtabscheidung und Nanostrukturen.