Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9261088 zu verkaufen

ID: 9261088
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
CVD System, 8" Process: HPTEOS (2) Loadlocks Robot assembly (3) CVD Deposition chambers Chamber type: DxZ Includes: (5) EBARA Pumps System controller AA20 Loadlock pump AA40W Pump AA70W Pump AA20 Buffer pump ADCS TEOS Cabinet TEOS Canister size: (5) Gallons Process tank pressure (Liquid Cabinet), TEOS: 35 AMAT 1 Heat exchanger Heat exchanger temperature: 65°C Mainframe: OTF HP End Enduro Robot VEXTA Stepper motor, 5-Phase Process chamber: (3) ADVANCED ENERGY RFG 2000-2V RF 1 Generators (3) ADVANCED ENERGY PDX 900-2V RF 2 Generators (5) ADVANCED ENERGY 3155094-003A RF Matches MKS 122BA-0100EB-S Pressure manometer, 100 torr Pressure control: Throttle valve 0040-32148 Heater Process temperature: 400°C MFC Gases: N2: 3 slm O2: 50 sccm NF3: 500 sccm C2F6: 500 and 1000 sccm O2: 2 slm He: 1 and 2 slm LFM: STEC, TEOS 1.5 g/min 0500-01047 Endpoint 3870-04383 Injector valve IV Line temperature, TEOS: 100 Gasline temperature: 100 1998 vintage.
AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA 5200 ist ein für die fortgeschritten paketierte Gerätproduktion entworfener Hochleistungshalbleiteroblatenherstellungsreaktor. Der Reaktor basiert auf der patentierten Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Technologie von APM. AMAT Centura 5200 ist ein fortschrittlicher Halbleiterwafer-Fertigungsreaktor, der PECVD-Technologie verwendet. Das Modell 5200 bietet ein effektives Mittel zur Herstellung hochwertiger Chips mit minimalen Defekten. Der Reaktor ist in der Lage, Metall- und dielektrische Abscheidungen, Ätz- und Nachbehandlungen durchzuführen. Das PECVD bietet eine hochpräzise Prozesswiederholbarkeit, eine verbesserte Kontrolle von Oxidspannung und Filmdicken sowie eine verbesserte Beständigkeit gegen Beschädigungen durch statische Elektrizität. Auf diese Weise können mit APPLIED MATERIALS CENTURA 5200 hergestellte Chips mit außergewöhnlicher Zuverlässigkeit mit hoher Ausbeute betrieben werden. Centura 5200 kann Wafer von 2 Zoll bis 12 Zoll Durchmesser verarbeiten. Der Reaktor ist mit fortschrittlichen Bewegungssteuerungssystemen sowie fortschrittlichen thermischen Steuerungs- und Materialhandhabungssystemen für maximale Produktionsgenauigkeit und Wiederholbarkeit ausgestattet. Der Reaktor verfügt über zwei Reaktantgasmischer und eine automatisierte Gasstromregelung, um höchste Produktionsgenauigkeit zu gewährleisten. Diese Eigenschaften ermöglichen Spezialverfahren, die die Qualität der auf AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 hergestellten Chips verbessern können. AMAT Centura 5200 bietet eine breite Palette von Funktionen, einschließlich Präzisionsprozesskontrolle, schnelle Aushärtung, überlegene Haftung, verbesserte Erträge und verringerte Partikelerzeugung. Dies ermöglicht die Herstellung von Chips von besserer Qualität zu geringeren Kosten. Die fortschrittliche Technologie des Reaktors ermöglicht es Herstellern auch, neue und kostengünstigere Prozesse zu erforschen. Um eine optimale Leistung zu gewährleisten, ist die APPLIED MATERIALS Centura 5200 mit Diagnosesystemen ausgestattet, die Systemprobleme erkennen und eine Fehlerbehebung ermöglichen. Das Fabrik-Support-Team steht Kunden zur Verfügung, die Unterstützung bei ihren Systemen benötigen. Centura 5200 Reaktor bietet eine leistungsstarke und effiziente Lösung für alle Herausforderungen der Halbleiterproduktion. Der Reaktor wurde mit fortschrittlicher PECVD-Technologie gebaut und bietet eine leistungsstarke und zuverlässige Chipherstellung. Dies ermöglicht verbesserte Erträge, überlegene Chipqualität und gesunkene Produktionskosten. Der Reaktor verfügt auch über eine breite Palette von Funktionen, einschließlich fortschrittlicher Bewegungssteuerung, thermischer Steuerung, Materialhandhabungssysteme und automatisierter Gasflusssteuerung. Sein flexibles Design macht AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 zu einem idealen Begleiter für jede Halbleiterfertigungslinie.
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