Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9402491 zu verkaufen

ID: 9402491
CVD System (3) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist eine hochmoderne Abscheidungsreaktionskammer, die in der Halbleiterherstellungsindustrie eingesetzt wird. Es bietet die Fähigkeit des vakuumbasierten Sputterns, der chemischen Dampfabscheidung und der thermischen Oxidation, um Dünnschichtmetallische oder dielektrische Schichten auf Wafern zu erzeugen. AMAT Centura 5200 verfügt über eine 24-Zoll-Einwafer-Prozesskammer mit einer maximalen Betriebstemperatur von 1.000 ° C. Es ist mit zwei unabhängig gesteuerten Sputterquellen ausgestattet, die eine gleichmäßige Abscheidung von Materialien auf dem Wafer ermöglichen. Es enthält auch zwei HF-Stromquellen, die sowohl für Sputtern als auch für thermische Prozesse wie Oxidation verwendet werden können. Neben der automatisierten Prozesssteuerung verfügt die APPLIED MATERIALS Centura 5200 über eine integrierte Prozesssteuerung, die sofortiges Feedback liefert, um die Genauigkeit der Waferbeschichtung sicherzustellen. Dieses System ermöglicht es dem Benutzer auch, Prozessdaten in Echtzeit anzuzeigen und bei Bedarf die Abscheidungsparameter zu ändern. Die Kammer verfügt außerdem über eine Gasfördereinheit mit Präzisionsdosierbarkeit und eine Reihe von Ventilen, die es dem Benutzer ermöglichen, die verschiedenen Prozesse genau zu steuern. Centura 5200 ist mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen, wie einer Hochdruckbehältermaschine, konzipiert, um die Umwelt und das Personal vor jeder möglichen Freisetzung von Gefahrstoffen zu schützen. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist eine ideale Maschine für Serien- und Forschungsanwendungen. Es hat eine lange Lebensdauer und eine akribische Prozessintegrität, die es geeignet macht, die hochwertigsten Dünnschichten auf kostengünstigste Weise zu erstellen. Seine einzigartige Kombination aus Abscheidungsmethoden, präziser Prozesskontrolle und Sicherheitsmerkmalen stellt sicher, dass es eine führende Wahl unter Geräteentwicklern und Herstellern ist.
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