Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP P3i #9211673 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP P3i ist ein fortschrittlicher Plasmareaktor für den Einsatz in der Halbleiterverarbeitung. Es verfügt über ein verankertes Multi-Elektroden-Array, um Ätz- und Abscheideraten mit totaler Prozesskontrolle und Präzision zu liefern. Der Reaktor verwendet ein einzigartiges Plasmakammerdesign, um eine Optimierung der Plasmadichte bei jeder Geschwindigkeit oder Leistung zu ermöglichen, wodurch Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit auch bei hohen Leistungsstufen gewährleistet sind. AMAT Centura ACP P3i ist in der Lage, eine Vielzahl von Plasma-basierten Prozessen zu unterstützen; einschließlich Ätzen, Abscheiden und Abscheiden-Ätzen. Es ist in der Lage, Low-K-dielektrisches Ätzen, SiGe-selektive und Decke Abscheidung zu unterstützen, und kann höhere SRAM-Dichte bei schnellerer Speicherzellenbildung für verbesserte Geräteausbeute und Zuverlässigkeit realisieren. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura ACP P3i verwendet fortschrittliche Plasmaquellentechnologie mit fortschrittlichen Diagnose- und Steuerungssystemen zur Prozesssteuerung und -optimierung. Es ist in der Lage, die anspruchsvollsten Ergebnisse wie niedrige Ätzraten, hohe Abscheidungsraten und kurze Zykluszeiten zu erzielen. Centura ACP P3i ist mit einer hocheffizienten Elektrodenverteilung ausgestattet, die die Unterschneidung minimiert und dadurch die Prozessqualität verbessert. Die Massenstromausrüstung des Reaktors sorgt während des gesamten Prozesses für einen genauen Gasfluss, und das Substratkühlsystem hilft bei der Aufrechterhaltung der genauen Temperatur. Die geringen Leistungsverluste und der geringe Energieverbrauch führen zu geringeren Kosten pro Wafer und einer verbesserten Produktionseffizienz. Das P3i verfügt über eine robuste Sicherheitseinheit mit ausfallsicheren Ionenquellen und versiegelter Billet-Testhardware mit NIST-Rückverfolgbarkeit. Das P3i ist auf SEMI-Sicherheitsstandards ausgelegt und ist mit den meisten fab-Automatisierungssystemen für die Integration mit bestehenden Geräten kompatibel. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP P3i ist ein leistungsstarker und zuverlässiger Reaktor, der eine hervorragende Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit bietet. Es bietet eine Vielzahl von Funktionen und Funktionen, die auf die fortschrittliche Halbleiterverarbeitung zugeschnitten sind. Die fortschrittliche Plasmaquellentechnologie ermöglicht es, auch unter schwierigen Prozessbedingungen präzise, wiederholbare Ergebnisse zu liefern. Darüber hinaus ist die robuste Sicherheitsmaschine, kostengünstige Produktionsmethoden und die Kompatibilität mit Automatisierungssystemen eine ausgezeichnete Wahl für die fortschrittliche Waferfertigung.