Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP Radiance #9055082 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP Radiance ist ein hochleistungsfähiger, automatisierter CVD-Reaktor (Atmospheric Chemical Vapor Deposition), der für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiter- und Optoelektronik-Bauelemente entwickelt wurde. Der Reaktor besteht aus einem Quarzduschkopf und einer zylindrischen Kammer sowie einer ausgeklügelten Steuerung. Die Kammer ist in drei unabhängig steuerbare Prozesszonen unterteilt, die eine Vielzahl von Bearbeitungsparametern einstellen und beibehalten können. Die Kammer verfügt über vier unabhängig voneinander einstellbare Gasverteilungen für die Abgabe von Prozessgasen wie Wasserstoff, Argon und Stickstoff, was eine erhöhte Flexibilität und Kontrolle ermöglicht. AMAT Centura ACP Radiance verwendet eine programmierbare Mikrowellenquelle, um eine genaue und gleichmäßige Plasmaheizung bereitzustellen, die schnellere Prozesszeiten und eine verbesserte Filmleistung ermöglicht. Die Mikrowellenquelle bietet die Flexibilität, die Leistung und Frequenz der Mikrowellenstrahlung entsprechend den Prozessanforderungen zu variieren. Der Reaktor verfügt über ein programmierbares Thermal Management System (PTMS), das eine präzise Temperaturregelung während des gesamten Verarbeitungszyklus durch Modulierung der Mikrowellenleistung ermöglicht. Dies trägt dazu bei, Ungleichförmigkeiten aus Zonenungleichgewichten zu minimieren. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura ACP Radiance hat eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, so dass es einfach zu bedienen und zu programmieren. Die Steuerung bietet zudem eine Echtzeit-Prozessüberwachung mit aktivem Fehlerschutz für verbesserte Prozessstabilität und Wiederholbarkeit. Um sicherzustellen, dass der Reaktor mit Spitzenleistung läuft, können eine Reihe von optionalen Komponenten hinzugefügt werden, wie eine Ionenquelle, Turbopumpe und HF-Generator. Centura ACP Radiance bietet einen höheren Durchsatz, bessere Zuverlässigkeit und höhere Ausbeute und Produktivität im Vergleich zu anderen CVD-Abscheidungssystemen. Es ist in der Lage, komplexe Merkmale und Muster in fortgeschrittenen Halbleiter- und optoelektronischen Materialien zu schaffen, was es zu einem idealen Werkzeug für die Herstellung von ultradünnen Filmen und Hochk-Dielektrika macht. Es ist weit verbreitet in der Herstellung von Dünnschichttransistoren, integrierten Schaltungen, mikroelektromechanischen Systemen, LED-Wafern und anderen fortschrittlichen elektronischen Komponenten.