Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP RP #9096042 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP RP ist ein fortschrittlicher Hochleistungs-Plasmaätzreaktor für die Halbleiterherstellung. Es verfügt über ein hocheffizientes Abscheidungssystem mit einer speziell entwickelten Sputterelektrode und der patentierten Costar Rotatable Process (CRP) -Ausrüstung zur präzisen Steuerung von Prozessparametern. Das CRP ermöglicht Prozessoptimierung und verbesserte Ausbeute durch sorgfältige Prozesskontrolle und genaue Abscheidung. Das ACP RP ist für eine Reihe von Halbleiterverarbeitungsanforderungen ausgelegt, einschließlich CMOS- und III-V-Bauelementen. Es ist sowohl in-situ physikalische als auch chemische Abscheidung fähig und bietet eine höhere Prozesskontrolle durch fortschrittliche Präzision und Genauigkeit. Der AKP-RP-Reaktor wird mit HF-Plasma betrieben und bietet eine effektive und effiziente Plasmaquelle für die Herstellung einer Vielzahl von Materialien für Halbleiteranwendungen. Der Reaktor besitzt eine breite Prozessfähigkeit von der Ätzung und Ionenimplantation bis zur selektiven Abscheidung. Es verwendet proprietäre Software und patentiertes Costar Rotatable Process, um die Elektroden und die Plasmapfade für eine optimale Abscheidung von Schichten über dem Wafer genau auszurichten. Darüber hinaus verfügt das System über hocheffiziente Vakuumsysteme mit einer spezialisierten Prozesskammer für eine verbesserte Gleichmäßigkeit der Abscheidung. Dies ermöglicht eine höhere Gleichmäßigkeit über die gesamte Länge des Abscheideprozesses. Die spezielle Prozesskammer reduziert die Geräuschpegel und verbessert die Abscheidungsleistung. Darüber hinaus verfügt das ACP RP über e-Beam Driven Process Sources (EBPS), die schnelles Ätzen, Ionenimplantation und andere Plasmabearbeitungstechniken in einem einzigen Schritt ermöglichen. Das ACP RP ist mit einem fortschrittlichen Steuerungssystem ausgestattet, das eine präzise und genaue Steuerung der Prozessparameter ermöglicht. Dies sorgt für reproduzierbare, ertragsstarke Ergebnisse, wodurch das ACP RP für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist. Darüber hinaus ist der ACP RP leicht erweiterbar, mit optionalen Funktionen wie drehbarer Platte, Unigy Electrostatic Chuck (ESC), RoboSTAT Process Control Software und mehr. Alle diese Funktionen gewährleisten konsistente und vorhersehbare Ergebnisse, was einen optimierten Durchsatz und eine verbesserte Ausbeute in einer Produktionsumgebung ermöglicht. Der ACP RP ist für einen schnellen, störungsfreien Betrieb konzipiert und bietet herausragende Eigenschaften und eignet sich somit für eine Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen. Seine fortschrittliche HF-Plasmaquelle und hochpräzise Prozesskontrolle machen es zu einer guten Wahl für jeden Prozess, der Zuverlässigkeit und Genauigkeit erfordert. Mit seiner robusten Konstruktion und Leistung ist AMAT Centura ACP RP eine ideale Wahl für hohe Volumina und komplexe Plasmaätzverarbeitungsaufgaben.