Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP RP #9170816 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP RP
Verkauft
ID: 9170816
Wafergröße: 12"
EPI System, 12".
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP RP ist ein hocheffizienter Halbleiterreaktor für die fortschrittliche Kreislaufverarbeitung. Der Reaktor ist in der Lage, 20 anspruchsvolle Ätzprozesse auf den komplexesten Wafern durchzuführen und gleichzeitig extreme Schaltungsgenauigkeit zu erzeugen. Das Centura Plasma-Verfahren bietet überlegene Kammerkontrolle und Prozesskomplexität, die jeder anderen chemischen Dampfabscheidung (CVD) oder Ätzsystemen auf dem Markt überlegen ist. AMAT Centura ACP RP hat zwei Turbopumpenstationen, jeder, der dazu fähig ist, eine Reihe 0 zu 1.2 torr, sowie zwei Hochleistungsquellen der Elektronzyklotronklangfülle (ECR) mit einer vereinigten Macht von 35 Kilowatt zu lenzen. Die Anlage verfügt außerdem über zwei Quarzreaktantengaseinlässe und zwei Quarzmassenstromregler, die eine präzise Steuerung des Prozessgases ermöglichen. Darüber hinaus bietet die extra große Verarbeitungskammer von APPLIED MATERIALS Centura ACP RP eine Niederdruckquelle, die sowohl für reaktive Ionenätz- (RIE) als auch für Hot-Wire Chemical Vapor Deposition (CVD) -Prozesse qualifiziert ist. In Bezug auf Merkmale umfasst Centura ACP RP ein hochauflösendes Laserinterferometer, um Fehlstellungen in der Kammer aufgrund von Prozessdrift zu erkennen. Das System enthält auch mehrere verteilte Anwendungsports für den gleichzeitigen Betrieb und die Steuerung mehrerer Prozessschritte. Dies ermöglicht eine höhere Genauigkeit und Wiederholbarkeit von Prozessen durch eine bessere Synchronisation von Technologien. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP RP ist aufgrund seiner fortschrittlichen Prozesskomplexität ideal für die fortschrittliche Schaltungsaufbereitung, die eine außergewöhnliche Leistung in Bezug auf Geschwindigkeiten und Erträge ergibt. Darüber hinaus behält die extra große Kammer der Anlage eine gleichmäßige Abscheidung auf dem Zielwafer bei, wodurch mehrere Schichten mit größerer Genauigkeit zusammengeführt werden können. Die überlegene Kammersteuerung von AMAT Centura ACP RP macht sie auch für die CIP (Clean-In-Place) -Verarbeitung geeignet, was Kreuzkontaminationen und mögliche Produktfehler deutlich reduziert. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS Centura ACP RP ein zuverlässiger Halbleiterreaktor, der eine überlegene Prozessleistung garantiert und eine äußerst komplizierte Schaltungsaufbereitung ermöglicht. Centura ACP RP ist mit seinen fortschrittlichen Funktionen, seinem robusten Design und seinen vielfältigen Funktionen die perfekte Wahl für Chiphersteller, die durch ihre Ätz- oder Abscheideprozesse höchste Präzision und Wiederholbarkeit benötigen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor