Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP-SIGE #9199635 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP-SIGE (Atomic Capacitive Plasma-Surface Isolulated Gate Etch) Reaktor ist ein spezialisiertes Plasmaätzsystem zur Herstellung von fortschrittlichen Nanotransistoren und integrierten Schaltungen. Es verwendet ein induktiv gekoppeltes Ätzgas mit einer atomar präzisen Plasmaquelle, um eine hohe Selektivität zum Ätzen von Silizium, Germanium, Galliumarsenid und anderen isolierenden Materialien zu erreichen. AMAT Centura ACP-SIGE appliziert zunächst Plasma auf einen Siliziumwafer, ein Substrat, durch das ein elektrischer Strom geleitet werden kann. Dadurch wird die Oberfläche des Wafers zu einem Leiter, der eine hohe Steuerung des Ätzprozesses ermöglicht. Während das Ätzgas durch das System gelangt, wird das Plasma von der Oberfläche des Wafers durch das Ätzgas erregt, wodurch ein hochselektiver Ätzprozess entsteht. Der kontrollierbare Plasmaprozess ermöglicht dann ein äußerst präzises Ätzen des Zielmaterials und die präzise Steuerung der durch den Ätzprozess verursachten Schäden. Neben der Steuerung des Ätzprozesses bietet APPLIED MATERIALS CENTura ACP-SIGE auch eine kostengünstige Lösung zur Erreichung der Maxium-Selektivität. Die vor dem Ätzen auf den Wafer aufgebrachte integrierte Gate-Isolationsschicht schützt vor unerwünschter Abscheidung oder Implantation über die Grenzfläche, so dass der Ätzprozess ohne unbeabsichtigte Beschädigung oder Kontamination benachbarter Materialien an seinem Zielbereich haftet. Centura ACP-SIGE ermöglicht auch eine Hochdurchsatzlösung, die bis zu zwölf Kubikzentimeter Material pro Minute ätzen kann. Dies bedeutet, dass mehr Material in kürzerer Zeit verarbeitet werden kann, was die Produktivität und Effizienz erhöht. Insgesamt ist der AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP-SIGE (Atomic Capacitive Plasma-Surface Insulated Gate Etch) Reaktor ein ausgezeichnetes Werkzeug für die Herstellung von hochwertigen integrierten Schaltungen und Transistoren mit einem knappen Budget. Es bietet eine hohe Kontrolle über den Ätzprozess, geringe Kosten und ein hohes Maß an Selektivität. Die überlegenen Durchsatzmöglichkeiten des ACP-SIGE machen es auch ideal für Serienanwendungen.