Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP #293738973 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP ist ein fortschrittlicher Produktionsreaktor, der einen hohen Durchsatz an Herstellungsprozessfähigkeit und Zuverlässigkeit bietet. Dieses System ist ideal für die Abscheidung mehrerer Dünnschichtschichten, die typischerweise in der Halbleiter- und Photovoltaik-Fertigungsindustrie verwendet werden. AMAT Centura ACP kombiniert eine Quarz- „Kaltwand“ -Hauptkammer, Heißwand-Empfänger auf Silizium-Halbleiter-Basis und geringe thermische Belastung, schnell bewegliches lineares Scannen. Diese Kombination von Konstruktionselementen reduziert Fertigungsfehler, reduziert Ausfallzeiten und verbessert die Produktgleichförmigkeit. Der ACP verfügt über eine Fünf-Positionen-Wafer-Lade, die eine schnelle und einfache Beladung von bis zu fünf Wafern gleichzeitig in die Hauptkammer ermöglicht. Die Hauptkammer ist zylindrisch geformt und enthält die Heißwand-Suszeptoren, ein Quarzschildrohr und das Cold Wall-Fenster. Die kalte Wand besteht aus einem einzigen Quarzstück, das die Außenseite der Kammer während des Betriebs von den Prozessgasen isoliert. Diese Wand ist für verschiedene Prozesschemien austauschbar und kann mehrere Prozessrezepte gleichzeitig unterstützen. Zur Verbesserung der Prozessgleichförmigkeit enthält das ACP ein lineares Abtastmerkmal, das die Suszeptoren schnell über die Breite der Prozesskammer übersetzt. Dieser schnelllebige Scan ermöglicht dem Substrat eine homogene thermische Verarbeitung und minimiert Hot Spots. Es ermöglicht auch eine feinere Abstimmung von Prozessparametern wie Leistung, Temperatur und Druck bei minimalen Ausfallzeiten. Das ACP verfügt auch über gestapelte Plasmaquellentechnologie und fortschrittlichen HF-Stromgenerator. Die Plasmaquellentechnologie dient zur Herstellung von Ionen innerhalb der Kammer, um Dünnschichtmaterialien zu reaktiv zu machen. Durch die Verwendung von zwei unabhängig konfigurierbaren Plasmaquellen kann das System verdampfte Arten in der Kammer erzeugen, ohne störende Elektroneneffekte zu erzeugen. Der parallele HF-Generator ermöglicht eine Spitzenleistung von bis zu 30kW pro Gasquelle und gewährleistet einen zuverlässigen Betrieb in allen Prozessen. Der Multi-Thermal Zone Controller des ACP bietet erhebliche Durchsatzgewinne durch präzise Regelung einzelner Zonentemperaturen während des gesamten Abscheidungsprozesses. Darüber hinaus verfügt das ACP über SPS-Programmierung für automatische Abläufe und vollständige Steuerung von Prozessparametern. Alle diese Funktionen tragen dazu bei, eine gleichmäßige Prozessabscheidung, schnellere Zykluszeiten und verbesserte Erträge zu gewährleisten. Abschließend ist APPLIED MATERIALS Centura ACP ein zuverlässiger Produktionsreaktor mit hohem Durchsatz, der es den Halbleiter- und Photovoltaikherstellern ermöglicht, ihre Prozesse vollständig zu kontrollieren. Die fortschrittlichen Konstruktionselemente ermöglichen eine verbesserte Prozessgleichmäßigkeit und -ausbeute, reduzieren Herstellungsfehler und steigern die Gesamtproduktionseffizienz.