Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP DPS II #9209227 zu verkaufen

ID: 9209227
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Polysilicon etcher, 12" (4) Process chambers: DPS-ll With AGN ESC Missing parts: Qty / Name / Part number (1) / View window / 0200-36461 (1) / 10 Torr gauge / 135-00013 (1) / Ion gauge / 3310-0006 (1) / Bias match / 0190-03009 (1) / HV / 0090-00865 (1) / Foreline gauge /1350-01232 (1) / Ion gauge ISO valve / 3870-00021 (1) / Monochrometer EPD / 0010-05478 (1) / Slit door / 0020-64587 (1) / Slit door bellow / 0040-76767 (1) / NA Heated weldment TEE-KF 40 / 0190-23502 (1) / Heated weldment 7.09 KF 40 R / 0190-23503 (1) / MF Robot driver / 0190-17853 (3) / E84 Cables / - (2) / Special gas pipes / - 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS II ist ein Reaktor für die Verarbeitung von Materialien in der Halbleiterindustrie. Dieser Reaktor ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien, einschließlich Oxide, Nitride, Silizide und andere Halbleitermaterialien, mit großer Präzision und Genauigkeit zu verarbeiten. Die Mechanik von AMAT Centura AP DPS II basiert auf dem „Dynamic Pressure Sensing System“ (DPS). Dieses innovative System ermöglicht eine präzise und einstellbare Druckregelung bei der Verarbeitung oder beim Anbau von Materialien. Der Druck und die Strömung des Gases sowie die Temperatur der Reaktionspartner werden überwacht und präzise gehalten. Mit der Fähigkeit, Materialien bei unterschiedlichen Temperaturen zu verarbeiten, ermöglicht es Flexibilität in der Art des zu verarbeitenden Materials. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura AP DPS II verfügt auch über einen Gaskrümmer zur Bereitstellung von Reaktanden wie Lachgas, Stickstoff und Argon in die Reaktorkammer. Dieser Gaskrümmer ermöglicht eine kontrollierte Strömung von Gasen in der Kammer, was hilft, die Genauigkeit des Prozesses zu gewährleisten. Darüber hinaus bietet das Plunger Injection System (PIS) eine präzise Kontrolle über die Injektion von Ladungsmaterialien. Das Design von Centura AP DPS II ist auch für maximale Sicherheit gebaut. Ein elastischer Sicherheitsschild verhindert Splatter und eine doppelte Charmonium-Reaktionskammer hält den Prozess auf optimaler Temperatur. Zusätzlich ist ein Fernverschluss an der Reaktorkammer angebracht, um eine vollständige Eindämmung während des Gebrauchs zu gewährleisten. Darüber hinaus bietet die fortschrittliche Automatisierungstechnologie in AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS II Anwendern die Möglichkeit, bestimmte Aspekte des Reaktorprozesses in Echtzeit zu überwachen und fernzusteuern. Dies ermöglicht eine höhere Genauigkeit und Kontrolle und liefert dem Benutzer gleichzeitig Daten darüber, wie sich seine Prozesse im Laufe der Zeit verändert haben. In Sachen Effizienz steht AMAT Centura AP DPS II an der Spitze seiner Klasse. Sein modernes Design und seine fortschrittlichen Steuerungsfunktionen machen es zu einem zuverlässigen und vertrauenswürdigen Gerät für die Verarbeitung von Halbleitermaterialien. Mit seinen präzisen Druckregelsystemen und der robusten korrosionsbeständigen Konstruktion ist APPLIED MATERIALS CENTURA AP DPS II ein ideales Gerät für den Anbau, die Verarbeitung und die Charakterisierung von Materialien in der Halbleiterindustrie.
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