Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler #9027457 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9027457
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Dielectric etcher, 12"
Process: Cu 62L, 65L, & 92L
Software version: B2.6_45
System Power Rating: 208 AC 3-Phase for system
Loading configuration: 3
Ch-A: Etch chamber 1
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-B: Etch Chamber 2
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-C: Etch Chamber 3
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-D: Etch Chamber 4
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-TC: Transform Chamber
Gases used: N2 (venting)
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler ist ein CVD-Reaktor und eine Vakuumabscheidungskammer. Es wurde entwickelt, um eine breite Palette von Anwendungen von der Abscheidung von dünnen Schichten für die Halbleiterbauelementmetallisierung bis hin zur Niedertemperatur-organischen und sogar atomaren Schichtabscheidung (ALD) durchzuführen. Es ist gut geeignet für die Herstellung von Halbleiterbauelementen in verschiedenen Branchen, einschließlich Speicher-, Medizin- und MEMS-Geräten. Der AP Enabler basiert auf einer kryogenen Vakuumkammer, die eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit bei einer von anderen industriellen CVD-Reaktoren unübertroffenen Temperaturstabilität bietet. Das Gerät verfügt über einen 10-Achsen-Roboterarm mit einer hohen Bewegungsgeschwindigkeit sowie einer präzisen Bewegungssteuerung, um eine präzise Positionierung während des Abscheideprozesses zu ermöglichen und die Bildung von strukturierten Schichten zu ermöglichen. Die in der Kammer verwendeten reaktiven Gase werden durch schmale Rohre eingeleitet, wodurch eine mögliche Verunreinigung minimiert wird. Der AP Enabler ist zudem mit einem Datenerfassungssystem ausgestattet, das eine detaillierte Analyse von Parametern wie Gasdurchfluss, Druck und Temperatur ermöglicht. Die Datenerfassungseinheit ermöglicht es dem Anwender auch, Prozessparameter wie Abscheidetemperatur und Druck in Echtzeit einzustellen. Andere Maschinenmerkmale umfassen ein einzigartiges Gasspur-Merkmal, das entwickelt wurde, um die reaktiven Gase von dem Trägergas automatisch zu entkoppeln, bevor sie in die Kammer eingeführt werden, wodurch das Risiko einer Ablagerungskontamination gemindert wird. Das AP Enabler Tool ist eine zuverlässige, kostengünstige Lösung, die einfach in andere Prozesse integriert werden kann, um benutzerdefinierte Konfigurationen für bestimmte Anwendungen zu erstellen. Die Anlage ist auch in der Lage, eine Reihe von Wafern auf einmal unterzubringen und kann nahezu perfekte Einheitlichkeit für die Hochgeschwindigkeitsgeräteproduktion liefern. Darüber hinaus ist der AP Enabler für eine einfache Wartung ausgelegt, mit robusten Komponenten, die korrosionsbedingte Schäden verhindern und die Reinigung vereinfachen.
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