Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler #9282211 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler
ID: 9282211
Wafergröße: 12"
Dielectric etcher, 12".
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler ist ein Mehrzonen-Elektronenzyklotronresonanz (ECR) -Gas-basierter Ätzreaktor. Es ist für Anwendungen auf Siliziumbasis wie Dünnschichttransistoren und Metall-Oxid-Halbleiter (MOS) -Bauelemente konzipiert. Es verfügt über ein einzigartiges, intern gekühltes und vorgespanntes Quellmodul, das die Herstellung von Funktionen mit hohem Seitenverhältnis ermöglicht und eine größere Palette von Fertigungsfunktionen ermöglicht. Der Enabler ist auch in der Lage, ein kostengünstiges Spektrum an Prozessbedingungen zu erreichen und eine außergewöhnliche Prozessgleichförmigkeit über einen gesamten Wafer aufzuweisen. Der AP Enabler arbeitet in einem Modus mit konstanter Leistung und bietet eine hohe Plasmadichte und wiederholbare Rezepte. Die ECR-Plasmaquelle bietet energetische Spezies zum Ablagern und Ätzen mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit, was eine überlegene Ätzgleichmäßigkeit und -auflösung ermöglicht. Die Plasmaquelle wird in einer strahlungsgeschirmten Kammer eingeschlossen und mit übermäßig niedrigem Druck (10-5 mbar) betrieben. Die ECR-Quelle besteht aus drei Spiralresonanzen - 24GHz, 40GHz und 60GHz -, wobei jede Spirale einem bestimmten Zweck dient. Es ist auch mit einer einzigartigen Magnet-Ausrüstung ausgestattet, die die volle Kontrolle der Plasma-Dichte-Modulation im gesamten Wafer ermöglicht für mehr Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit der Funktionen. Der Enabler Reaktor ist auf der AMAT Centura Plattform aufgebaut und verfügt über einen Hochdurchsatz und eine Doppelkammer-Konstruktion, die eine Prozessablaufoptimierung ermöglicht. Die beiden Kammern bestehen aus der Prozesskammer und der Lastschließkammer. Die Prozesskammer enthält den Einzelwafer-Kühlschild, der eine Abkühlung und Vorkonditionierung der Reaktoren vor dem Ätzen und Abscheiden ermöglicht. Die Ladeblockkammer dient zur Substratübertragung von und zur Prozesskammer, wodurch ein eigenes Vakuumsystem zum Be- und Entladen entfällt. Der Enabler ist in der Lage, sowohl anorganische als auch organische Ätzprozesse mit Mehrzonenverarbeitung durchzuführen. Es bietet eine präzise Steuerung der Ätzraten unter Verwendung mehrzoniger Grenzparameter wie Kammerdruck, Kühlstrom und Gaszusammensetzung. So können spezielle Rezepte und Prozesse auf unterschiedliche Ätzbedürfnisse zugeschnitten werden. Es verfügt auch über eine verbesserte Wärme-Management-Einheit für genauere, zuverlässige und wiederholbare Leistung. Der AP Enabler ist für die Analyse im Produktionsmaßstab optimiert und bietet eine integrierte Endpunkterkennung mit fortschrittlicher Prozesssteuerung. Die Datenerfassungsfunktionen und die fortschrittliche Analytik der Maschine ermöglichen wiederholbare Prozessrezepte, verbesserte Ätzerträge und Prozessrückverfolgbarkeit. All diese Eigenschaften ermöglichen es dem Enabler, hohe Ausbeute für fortgeschrittene Anwendungen in Halbleiterfabriken zu erfüllen.
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