Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Frame #9293610 zu verkaufen

AMAT Centura AP Reactor ist ein CVD-Gerät (Chemical Vapor Deposition), das für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es ist ein Einzel-Wafer-Werkzeug, das so konfiguriert werden kann, dass auf einer Vielzahl von dielektrischen und Metallsubstraten entweder eine Dickschicht oder eine ultradünne Filmabscheidung erzeugt wird. Das System verwendet ein einzigartiges und innovatives Prozesskammerdesign, das höhere Erträge und eine bessere Gleichmäßigkeit ermöglicht. Seine leicht einstellbaren Substrathalter bieten eine breite Palette von Prozessparametern, was zu einer höheren Produktionseffizienz führt. Der Centura AP Reactor ist mit einer universellen Heizeinheit ausgestattet, die die Abscheidung einer Vielzahl von Materialien ermöglicht, darunter Silicon-3 (Si3), Siliciumcarbid (SiC) und Titandioxid (TiO2). Die Mehrstationsfähigkeit und der Hochtemperaturbetrieb machen den Centura AP ideal für eine Vielzahl von Low-K und fortschrittlichen dielektrischen Anwendungen. Die Maschine verfügt auch über ein proprietäres CVD-Werkzeug, das hochwertige Folien mit gleichmäßigen Dicken in allen Bereichen des Substrats liefert. Das Werkzeug nutzt auch eine hohe Gas-Durchfluss-Vermögenswerte, die signifikant verringern Badeinfassung soll. Durch die Steuerung von Reaktionen mit höheren Prozesstemperaturen kann das Modell die Metalldiffusion weiter reduzieren. Die hohen Temperaturen maximieren auch den Durchsatz und reduzieren Partikelzahlen. Darüber hinaus kühlt die effektive Wafer-Kühlanlage des Centura AP Reactor den Wafer sowohl innerhalb der Kammer als auch außerhalb der Kammer schnell und gleichmäßig ab. Der fortschrittliche Controller des AP Reactor bietet hervorragende Flexibilität und Benutzerfreundlichkeit. Es unterstützt komplexe Rezepte mit bis zu 8 Materialquellen und 10 Prozessparametern, so dass Ingenieure das Werkzeug schnell an verschiedene Rezepturen und Ablagerungsraten anpassen können. Der Mastercomputer ermöglicht eine einfache Rezepteinrichtung, erweiterte Prozessüberwachung und Alarmnachrichten. Darüber hinaus liefert es dem Anwender tiefgehende Daten zur Filmcharakterisierung und ein leistungsstarkes Substratsteuermodul, das es dem Anwender ermöglicht, die Positionierung des Substrats bei Akquisitionen oder Abkühlzeiten genau zu steuern. Darüber hinaus bietet der Centura AP Reactor verbesserte Sicherheitsfunktionen. Es enthält einen Sicherheitsstift, der Bedienungspersonal benachrichtigt, wenn zu viel Material hinzugefügt wird, ein Selbstabschaltelement, wenn der Kammerdruck zu niedrig ist, und andere Maßnahmen, um einen sicheren und effektiven Betrieb zu gewährleisten. Als letzten Schliff kommt das System auch mit einfachen Wartungsoptionen, so dass eine schnelle und einfache Reinigung und Wartung. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS Centura AP Reactor ein fortschrittliches und zuverlässiges CVD-Werkzeug für jeden Halbleiterhersteller, das hocheffiziente und gleichmäßige Ablagerungen erfordert. Es bietet maximale Prozesssteuerung, Geräteflexibilität und verbesserte Sicherheitsfunktionen zu einem erschwinglichen Preis und ist damit das ideale Werkzeug für jede CVD-Anwendung.