Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9149535 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X ist ein Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor. Es bietet fortschrittliche Leistung für eine schnelle, zuverlässige und wiederholbare Herstellung von fortschrittlichen II-VI- und III-V-Halbleiterfilmen. Die Ultima X ist in der Lage, hochreine, hochbelastete und defektarme Folien auch für die anspruchsvollsten Anforderungen an die Geräteherstellung herzustellen. Der Ultima X Reaktor verfügt über eine wandlose (selbstglühende) PECVD-Kammer und eine traditionelle Duschkabine, die das Wachstum einer breiten Palette konformer Filme mit einem niedrigen Grad an Temperaturungleichförmigkeit ermöglicht. Darüber hinaus bietet es eine variable Druck- und Temperaturregelung des Prozessgases im Duschkopf. Die Quellnetzteile bieten eine lineare Einstellung der HF-Leistung am Duschkopf und eine breite Palette von Plasmafrequenzoptionen bis zu 200 MHz. Dies ermöglicht eine hervorragende Füllfaktor und kritische Dimension Gleichmäßigkeit. Die Ultima X verfügt auch über fortschrittliche Heizzonentechnologie mit schnellen Hoch- und Abfahrgeschwindigkeiten. Dies hilft, Stress zu reduzieren und Kontaminationen zu verhindern, während die endgültigen Filmeigenschaften kontrolliert werden. Der fortschrittliche Quarzduschkopf und der Substrathalter des Reaktors sorgen für hohe Temperaturgleichmäßigkeit und hervorragende Filmeigenschaften. Die hohe Temperaturgleichförmigkeit sorgt für eine hervorragende Materialübertragungswiederholbarkeit und bietet eine bessere Schrittabdeckung als herkömmliche Duschkopfdesigns. Die langlebige Quarzzusammensetzung von AMAT Centura AP Ultima X macht es für schwierige und temperaturempfindliche Abscheidungen geeignet. Die Ultima X wurde für erhöhte Ausbeute und Durchsatz konzipiert. Es ist in der Lage, Standard- und Nicht-Standard-Prozessrezepte zu liefern. Das integrierte Steuerungssystem aktualisiert Prozesse in Echtzeit und ermöglicht eine schnelle Optimierung der Geräte. Parameter wie Wafertemperatur, Kammerdruck, HF-Quelle und Gasfluss werden überwacht und automatisch gesteuert. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der Centura AP Ultima X Reaktor ist ideal für den Prototypenbau, die Entwicklung und die Serienfertigung von Hochleistungselektronikkomponenten. Seine fortschrittliche Leistung ermöglicht es Benutzern, schnell zu entwickeln, zu testen und zu iterieren, um weit überlegene Produkte zu liefern. Sein optimiertes Design und seine hohe Temperaturgleichförmigkeit sorgen für wiederholbare und zuverlässige Ergebnisse.