Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9274497 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X ist ein Niederdruck, niedrige Temperatur Rapid Thermal Processing (RTP) Reaktor, der für Anwendungen wie Glühen, Dotieren und leichte Lithographie konzipiert ist. Es ist eine geschlossene thermische Ausrüstung, die zwangsweise konvektive Wärmeübertragung verwendet, um wiederholbare und zuverlässige Verarbeitungsergebnisse zu erzeugen. Der Ultima X bietet eine Temperaturregelung von -60 ° C bis 700 ° C mit einer maximalen Temperaturrampenrate von 600 ° C/sec für schnelles thermisches Cycling. Die Ultima X verfügt über ein Kammervolumen von 0,35 ft ³ mit einem Prozessrohr von 100 mm Durchmesser, das bis zu 33 Substrate aufnehmen kann. Die Kammer verfügt über eine einfach zu bedienende, doppelt dichte Tür und eine Auspufföffnung zur Entlüftung von Nebenprodukten. Zum Be-/Entladen des Substrats ist auch ein horizontales Spannfutter vorgesehen. Der Reaktor wird mit einzelnen vertikalen und horizontalen Heizelementen sowie zwei Xenonlampen zur gleichzeitigen vertikalen und horizontalen Bestrahlung betrieben. Das Gerät ist ferner mit einem APIII Integrated Controller ausgestattet, der eine digitale Temperaturregelung mit einer maximalen Heiz-/Kühlrate von 1 ° C/s ermöglicht. Dieser Controller ist mit 310 benutzerdefinierten Rezepten vorprogrammiert, um Ihren Prozess zu optimieren. Die Touchscreen-Schnittstelle bietet eine einfache Möglichkeit, die Parameter für einen bestimmten Prozess anzupassen. Der Controller ist auch mit einem Infrarotzünd- und Vakuumsteuersystem integriert und bietet 50 Datenbanksteckplätze zur Parameterspeicherung. Der Ultima X bietet eine Vakuumeinheit, die einen Basisvakuumspiegel von 5 mTorr mit optionalen Verstärkerpumpen bietet. Das integrierte Vakuummessgerät sorgt für eine genaue Steuerung und der Zwangsauslass ermöglicht die Entlüftung von Prozessgasen. Die Maschine ist in einer isolierten Edelstahlbox für einen genauen und sicheren Betrieb untergebracht. Das UV-A Quarz Ferninfrarot Dual-Wellenlängen-Strahlungswerkzeug ermöglicht eine effiziente und wiederholbare thermische Verarbeitung. Das Fenster ermöglicht eine optimale Übertragung der Strahlungsenergie aus den Lampen. Das Gerät kann mit einem Asset des Mass Flow Controllers integriert werden, um eine spezifische Atmosphärenverarbeitung zu ermöglichen. Das feste geteilte Abgasrohr sorgt für einen homogenen thermischen Zustand innerhalb der Kammer unter Minimierung des Temperaturgradienten. AMAT Centura AP Ultima X ist der ideale Niederdruck, niedrige Temperatur RTP-Reaktor für leichte Lithographie und Anwendungen wie Glühen und Dotieren. Es bietet ein überlegenes Edelstahl-Design, außergewöhnliche Temperaturregelung und Genauigkeit, integrierte Vakuum-Modell und Atmosphäre-Steuerung und Split-Auspuff, um homogene thermische Zyklen zu gewährleisten. Dieser Reaktor kann wiederholbare und zuverlässige Verarbeitungsergebnisse für die meisten Halbleiterprozesse gewährleisten.