Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9293599 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X Reactor ist ein innovatives CVD-Gerät (Chemical Vapor Deposition), das eine ultrapräzise Steuerung der Prozessumgebung ermöglicht. Es verwendet Niederdruck- und Niedertemperatur-Ätz- und Abscheidungsverfahren, um Prototypen-Halbleiterfilme abzuscheiden, typischerweise zur Herstellung komplexer Mehrschichtstrukturen und Nanoelemente. Die Ultima X hat eine außergewöhnliche Reaktivität und Gleichmäßigkeit für höhere Durchsätze und höhere Ausbeuten. Der AP Ultima X Reaktor ist in der Lage, Filme von bis zu fünf Mikrometer Dicke zu produzieren, unter Beibehaltung einer präzisen Prozesskontrolle. Das intelligente Hardware- und Softwaredesign des Systems wurde entwickelt, um Temperatur, Druck und Gasfluss sowie chemische Vorläufer und Reaktionskomponenten zu optimieren, um eine ideale Filmstruktur zu erzeugen. Diese fortschrittliche Reaktoreinheit verfügt über eine große Einkammer-Konstruktion, die eine Vierzonen-Aufdampfmaschine umfasst. Es ermöglicht die gleichzeitige Verwendung von bis zu vier verschiedenen Vorläufern in ihren jeweiligen Abscheidezonen. Der Ultima X Reaktor beinhaltet außerdem ein Lastverschlusswerkzeug zur Prozesssteuerung der Abscheidung sowie eine mechanische Verschluss- und Inertisierungstechnik. Die erweiterte Steuerung bietet Echtzeit-Experimente und Jogs sowie eine umfassende Überwachung des gesamten Prozesses. Es ist auch mit einem Rasterelektronenmikroskop für hochpräzise Messungen der Filmabscheidungsdicke und Gleichmäßigkeit ausgestattet. Diese Funktion ermöglicht die gleichzeitige Überwachung kritischer Prozessparameter wie Gasfluss, Temperatur und Druck. Die Verbrennungsflamme des Ultima X kann gaußverteilte und ansonsten isotrope Flammeneigenschaften unterstützen. Der Reaktor verfügt auch über Lastschlösser und integrierte Massenstromregler zum Ein- und Ausladen der Kammer. Das Doppelkammermodell des Ultima X ermöglicht die gleichzeitige Abscheidung von zwei Filmen, um die Prozesszeit zu reduzieren und die Gesamteffizienz zu erhöhen. Es bietet auch ein modernes Sicherheitsmodul zum Schutz vor Überbelichtung von Gefahrstoffen. Abschließend ist AMAT Centura AP Ultima X Reactor eine sehr vielseitige und effiziente chemische Dampfabscheidung. Mit seinen fortschrittlichen Fähigkeiten zur Temperatur-, Druck- und Gasflussregelung bietet es anspruchsvolle Folien und nanoskalige Strukturen bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung eines hohen Sicherheitsniveaus. Neben seiner hohen Präzision und Qualität bietet der Reaktor auch eine breite Palette von Funktionen und Vorteilen, die ihn zu einer attraktiven Option für die Produktion in hoher Stückzahl und hoher Qualität machen.