Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9397024 zu verkaufen

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ID: 9397024
Weinlese: 2005
HDP CVD System No Hard Disk Drive Chamber A,B and C: Chamber type: Ultima X HDP CVD RF Source: 1.8-2.17 MHz (Maximum 10000 W) RF Bias: 13.56 MHz (Maximum 9500W) RF RPS: 400 kHz (Maximum 6000W) Gas config (SCCM): MFC Full scale Gases: Gas / Range O2 / 1000 SCCM NF3 / 100 SCCM HE / 600 SCCM SiH4 / 300 SCCM H2 / 1000 SCCM AR / 1000 SCCM H2 / 1000 SCCM SiH4 / 50 SCCM HE / 400 SCCM AR / 100 SCCM NF3 / 3000 SCCM AR / 3000 SCCM 2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X ist ein innovativer hochmoderner Reaktor zum Ätzen, Abscheiden und anderen fortschrittlichen Halbleiterverarbeitungen. Es handelt sich um einen warmwandigen, entfernten Plasmaquellenreaktor (RPS) mit einer großen Kammer, einem breiten Spektrum an Prozessgasen und extremer Stabilität für kritische Anwendungen. Die Geräte von AMAT Centura AP Ultima X sind optimiert, um Hochleistungs-Ätz- und Abscheideprozesse mit bemerkenswert einheitlicher Materialgleichmäßigkeit und hohen Seitenverhältnissen zu liefern. Mit seiner Leistung und Ätzfähigkeit kann es schneller als je zuvor auf mehreren Ebenen und Funktionen geätzt und abgelegt werden. Der Reaktor bietet darüber hinaus eine überlegene Gleichmäßigkeits- und Produktionsrate sowie eine Sauberkeitskontrolle für fortschrittliche Mikro- und Nanostrukturen. Es verfügt auch über eine proprietäre und einzigartig gestaltete Gehäusetür, die einen einfachen Übergang von der Umgebung zur Prozessumgebung (PEC) und wieder zurück ermöglicht, sowie eine präzise Steuerung von Druck, Temperatur und anderen Kammerparametern. Der AP Ultima X bietet zudem eine flexible Auslastung/Entladung, was Ausfallzeiten bei gleichzeitig steigender Ausbeute reduziert. Der RPS-Reaktor verfügt über fortschrittliches Plasma, Gaslieferung und Kühlung, die hohe Präzision und qualitativ hochwertige Geräteleistung gewährleisten. Es weist ein automatisiertes Gasfördersystem auf, das eine reaktive Gasmassenstromregelung wirksam und zuverlässig durchführt, sowie eine Gasverteilereinheit zur Gewährleistung einer gleichmäßigen Plasmaerzeugung. Darüber hinaus ist diese Maschine mit einem fortschrittlichen Gasverteilungswerkzeug ausgestattet, das eine gleichmäßige Abdeckung beim Abscheiden und Ätzen ermöglicht. Der AP Ultima X verfügt über eine Reihe zusätzlicher Funktionen wie ein abstimmbares Prozessfenster, erweiterte thermische Steuerungsfunktionen und erweiterte Diagnosen. Es bietet Benutzern auch mehrschichtige Ätz-/Ablagerungsoptionen und die Möglichkeit, mehrere Prozessrezepte sowie eine umfassende Prozesskontrolle auszuführen, die alle zum hohen Maß an Kontrolle beitragen, das mit dem Asset zur Verfügung steht. Darüber hinaus verfügt der AP Ultima X über einen skalierbaren digitalen Controller, der je nach Modellbedarf konfiguriert werden kann und eine größere Flexibilität in der Automatisierung ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura AP Ultima X liefert ein außergewöhnlich gleichmäßiges Ätzen, das die Herstellung tiefer Merkmalsstrukturen mit sauberen Oberflächen und verbesserter Geräteleistung ermöglicht. Mit seinem robusten Design und seinen Fähigkeiten ist es die perfekte Lösung für die Präzisionsbearbeitung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente.
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