Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ASP+ #9116838 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ASP + ist ein hocheffizienter CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für die Verarbeitung von Halbleiterscheiben ausgelegt ist. Der fortschrittliche Reaktor ist in der Lage, fortschrittliche Abscheidungsprozesse wie epitaktisches Wachstum, Polysiliziumabscheidung und Bildung exotischer Filme durchzuführen. AMAT Centura ASP + Reaktor ist speziell entwickelt, um die Anforderungen der Serienproduktion durch überlegene Produktivität, Flexibilität und überlegene Prozesssteuerung zu erfüllen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura ASP + Reaktor verfügt über ein optimiertes Design, das die Filmintegrität erhöht. Der Reaktor verfügt über eine extra lange Halbleiterkammer, die eine verbesserte thermische Isolation und Gleichmäßigkeit ermöglicht. Das fortschrittliche Design ermöglicht eine schnelle und einfache Integration in bestehende Fertigungsinfrastrukturen. Darüber hinaus verfügt der Centura ASP + -Reaktor über mehrere fortschrittliche Technologien wie hochtemperaturgepulste induktive Abscheidung (HTPID) und Schnellpuffereinstellung (QBA) für eine verbesserte Produktionssteuerung und Nachhaltigkeit. Der Reaktor ist mit einem mehrachsigen, präzisionsmotorisierten Wafertransportsystem ausgestattet. Dies gewährleistet eine genaue Platzierung des Wafers und eine gleichmäßige Verarbeitung ohne manuelle Handhabung des Wafers. Es stehen auch fortschrittliche Plasmaquellen zur Verfügung, die fortschrittliche plasma−enabled-Prozesse wie Hochdichteplasma (HDP) und Elektronenzyklotronresonanz (LP-VREC) mit variablem Niederdruck ermöglichen und die Prozesssicherheit und -kontrolle weiter verbessern. Der Centrea ASP + Reaktor verfügt auch über automatisierte Sensoren und Alarme, die die Prozesswerte überwachen und Echtzeitdaten und Fernüberwachungsfunktionen bereitstellen. Die erweiterten Datenerfassungs- und Steuerungsfunktionen ermöglichen es den Betreibern, Änderungen der Prozessparameter schnell zu erkennen und bei Bedarf Korrekturmaßnahmen zu ergreifen. Darüber hinaus reduziert die benutzerfreundliche Software die Trainingszeit und erhöht die Produktivität des Bedieners. Zusammenfassend bietet der Centura ASP + -Reaktor von AMAT/APPLIED MATERIALS eine erstklassige Lösung für die Halbleiterwaferbearbeitung, die eine überlegene Prozesssteuerung, Zuverlässigkeit und Effizienz bietet. Die Kombination fortschrittlicher Funktionen und Technologien ermöglicht überlegene Erträge und Einheitlichkeit, ohne die Produktivität zu beeinträchtigen. Der Reaktor ist so konzipiert, dass er einfach in bestehende Systeme integriert werden kann und eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für die Serienproduktion bietet.