Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura CVD #293817404 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura CVD (Chemical Vapor Deposition) Reaktor ist ein Vakuumverfahren entwickelt, um dünne Filme aus einer Vielzahl von Materialien auf einer Vielzahl von Substraten abzuscheiden. AMAT Centura CVD besteht aus einer Hochtemperatur-Reaktionskammer, einer Gasmanagementausrüstung, einem Temperaturregelsystem und einer Partikelentfernungseinheit. Die Hochtemperatur-Reaktionskammer ist dazu ausgelegt, Filme abzuscheiden und an einen oder mehrere der folgenden Vorstufen anzubringen: Silan, Disilan, Schwefelwasserstoff, Dichlorsilan, Phosphoroxychlorid, Arsentrichlorid, Argon und Stickstoff. Die abgeschiedene (n) Folie (n) kann (können) in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden, wie der Herstellung von Halbleiterbauelementen, der Herstellung von Datenträgern und der Herstellung von Optoelektroniken. Die Gasmanagementmaschine von APPLIED MATERIALS Centura CVD ist darauf ausgelegt, die ausgewählten Vorläufer kontrolliert und in den richtigen Verhältnissen an die Reaktionskammer zu liefern, um die gewünschte Filmzusammensetzung zu erreichen. Das Gasmanagementwerkzeug ist ferner dazu ausgelegt, die exakten Förderraten jedes einzelnen Vorläufers sowohl hinsichtlich Durchflussmenge und Druck als auch den Gesamtdruck innerhalb der Reaktionskammer zu steuern. Darüber hinaus ist es auch in der Lage, die Strömung von inerten Gasen, wie Argon oder Stickstoff, zur Steuerung der Temperaturen innerhalb der Reaktionskammer zu steuern. Die Temperaturregeleinrichtung von Centura CVD ist so konfiguriert, dass die Temperaturen innerhalb der Reaktionskammer innerhalb des vorgegebenen Toleranzbereichs gehalten werden. Dieses Modell steuert die Temperaturen vor, während und nach dem Abscheiden der Folien und ermöglicht eine präzise Steuerung der Prozessparameter. Außerdem ist die Temperaturregeleinrichtung zur Überwachung der Temperatur des Wafersubstrats und der abgeschiedenen Folien ausgebildet, um ein optimales Wachstum zu ermöglichen. Das Partikelentfernungssystem von AMAT/APPLIED MATERIALS Centura CVD ist darauf ausgelegt, während des Abscheidungsprozesses erzeugte Partikel zu entfernen. Dadurch wird ein qualitativ hochwertiges Wachstum der Folie auf dem Substrat gewährleistet. Die Partikelentfernungseinheit verwendet ein an der Reaktionskammer angebrachtes In-situ-Vakuum, das kontinuierlich gasförmige oder feste Verunreinigungen, die durch den Abscheidungsprozess entstehen, abzieht. Die Maschine beinhaltet auch ein effizientes Filtrationswerkzeug und korrosionsbeständige Materialien, um Partikelansammlungen und Verschmutzungen der Anlage zu verhindern. AMAT Centura CVD ist ein ausgezeichnetes Abscheidungsmodell, das eine präzise Kontrolle des Abscheideprozesses ermöglicht und zu einem hochwertigen abgeschiedenen Film auf dem Substrat führt.