Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DCVD / DXZ #9293854 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DCVD / DXZ
ID: 9293854
CVD System Parallel plate type: PECVD (SiO2 PTEOS).
AMAT Centura DXZ DCVD/Reactor, oder CVD Reactor, ist eine fortschrittliche Abscheidung Ausrüstung entwickelt, um präzise und hochwertige dünne Filme für heterogene Anwendungen zu liefern. Das System ist mit hochwertigen Komponenten gebaut und ist für den Betrieb bei Temperaturen bis zu 800 Grad Celsius konzipiert, die genaue Dicke Gleichmäßigkeit und genaue Kontrolle über die Prozesse bieten. Der CVD-Reaktor wurde entwickelt, um die Betriebszeit zu maximieren und die Produktion mit einem hochwertigen Produkt zu verbessern. Einzigartige Merkmale des Geräts sind eine automatisierte Prozessinbetriebnahme mit robusten Prozessüberwachungsfunktionen und eine optionale Quench-Recovery-Maschine, die eine Rezept-Konvertierung ermöglicht. Darüber hinaus verfügt das Werkzeug über eine präzise gesteuerte, hohe Stabilität, beheizte Umgebungskammer, die eine unbeschränkte Kammerbelastung ermöglicht, und einen zweistufigen Arbeitshuttle für hohen Durchsatz. Die integrierte Hardware des Asset verfügt über einen speziell entwickelten Suszeptor und Heizstab, der eine effiziente, gleichmäßige Erwärmung des Substrats sowie eine präzise Kontrolle über Temperatur und Druck ermöglicht. Das Suszeptor-Design optimiert die Dünnschichtabscheidung weiter, steuert die Abscheiderate und die Merkmalsgröße. Ein elektrodenfreies elektrostatisches Spannfutter ermöglicht die Verarbeitung von Substraten mit geringer Oberflächenspannung. Der CVD-Reaktor verwertet eine einzigartige Mehrzonendigitalkontrolle wärmen Modell vor, das Berücksichtigen von bis zu neun getrennt wärmt Zonen vor, und wird entworfen, um konsequente Temperaturkontrolle über die Thermalreihe zu bieten. Durch die Verwendung des Mehrzonenvorwärmers kann der Produktionsdurchsatz stark erhöht werden, da unterschiedliche Prozessentscheidungen getroffen werden können, ohne auf eine Temperaturregelung zu verzichten. Fortschrittliche Sicherheits- und Überwachungsfunktionen, wie eine Luftschleuse, um Druck und reaktive Gase zu steuern, ermöglichen einen sicheren und effizienten Betrieb. Das System ist auf höchste Sicherheits- und Leistungsstandards ausgelegt und für den Einsatz mit korrosiven und explosiven Gasen zertifiziert. Darüber hinaus ist der CVD-Reaktor mit Echtzeit-gasspezifischen Monitoren ausgestattet, die die Gasverteilung, die kontinuierliche Überwachung von Prozessgasen und die Druckmessung messen, was eine schnelle Erkennung von Prozessfehlern ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DXZ DCVD/Reaktor ist eine fortschrittliche Abscheidungseinheit, die überlegene Präzision und ausgezeichnete Folienqualität für eine Reihe von heterogenen Anwendungen bietet. Seine fortschrittlichen Sicherheits- und Überwachungsfunktionen machen es ideal für den Einsatz mit Gefahrstoffen, während seine integrierte Hardware und Mehrzonen-Vorwärmmaschine eine präzise Temperaturregelung und einen optimierten Durchsatz gewährleisten.
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