Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DCVD #293820439 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DCVD Reaktor ist eine fortschrittliche Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Ausrüstung. Dieser plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidungsreaktor ermöglicht eine effiziente Abscheidung von Silizium- und Siliziumdioxidfilmen sowie anderen Materialien. Das einzigartige Design des DCVD-Reaktors ermöglicht hochwertige und reproduzierbare Folien mit verbesserter Oberflächenglättung. AMAT Centura DCVD Reaktor ist ein Single-Wafer-System, das Materialien bis 200 mm Durchmesser abscheiden kann. Es hat die Fähigkeit, reaktive Gase, die zur Kombination und Bildung der gewünschten Schichtdicke benötigt werden, genau zu steuern und abzugeben. Die fortschrittliche Technologie dieser Einheit basiert auf der fortschrittlichen Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) -Technik, bei der dünne Filme aus dielektrischen Materialien auf Siliziumwafern, auf Leiterbahnen oder auf Halbleiterbauelementen abgeschieden werden. Es entsteht ein kontrollierter Korrosionsprozess von zwei oder mehr gasförmigen Reaktanden auf einem erhitzten Silizium-Halbleitersubstrat, das mit einem elektrisch entladenen Ionenplasma beladen ist. Dieses Verfahren liefert einen extrem gleichmäßigen, glatten Film mit einer definierten Grenzfläche zwischen Substrat und Folie. Aufgrund seiner hohen Temperatursteuerungsfähigkeit ist der Centura DCVD-Reaktor von APPLIED MATERIALS in der Lage, die Abscheideraten zu optimieren und gleichzeitig optimale Filmeigenschaften bereitzustellen. Das DCVD-Verfahren bietet auch verbesserte Oxidationsprofile und minimierte Schnittstellenfallendichten. Darüber hinaus bietet der Centura DCVD Reaktor kostengünstige Substratübertragungsfunktionen und automatisierte Prozesssteuerung. Diese fortschrittliche Maschine verfügt über einen voll integrierten Roboter, der überlegene Substrathandhabung für die Übertragung und Positionierung von Substraten bietet. Das Werkzeug verfügt auch über erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen wie Gassequenzierung und Zeitsteuerung, die eine präzise Steuerung der Prozessparameter ermöglicht. Darüber hinaus umfasst der AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DCVD Reaktor erweiterte Rückkopplungs- und Überwachungsfunktionen, so dass optimale Prozessbedingungen und Folienqualität während des gesamten Betriebs aufrechterhalten werden können. Insgesamt ist AMAT Centura DCVD ein fortschrittlicher plasmaverbesserter Abscheidungsreaktor, der eine effiziente Abscheidung von Filmen mit verbesserter Oberflächenglättung ermöglicht. Es bietet eine hervorragende thermische Steuerung, automatisierte Substrathandhabung, fortschrittliche Prozesssteuerung sowie Feedback und Überwachungsfunktionen, die reproduzierbare und hochwertige Folien ermöglichen. Somit eignet sich das DCVD-Verfahren für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich Halbleiterbauelementfertigung und Verbindungsanwendungen.