Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DLH #9093318 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DLH ist ein PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) Reaktor, der in der Industrie zur Dünnschichtabscheidung verwendet wird. Dieser Reaktor ist vielseitig einsetzbar und verwendet induktiv gekoppelte Plasma- (ICP) -Quellen, um eine Hochgeschwindigkeitsabscheidung einer Vielzahl von Materialien in der Produktionsumgebung zu ermöglichen. Das PECVD-Verfahren wird in vielen fortschrittlichen Halbleiter- und Mikroelektronik-Anwendungen eingesetzt, wie z.B. Abscheidung von Folien für photovoltaische Anwendungen, dielektrische Anwendungen, Metallisierung, sensibilisierte Schichten, Schutzschichten und strukturierte Polymere. Das PECVD-Verfahren nutzt eine Mischung von Gasen, um dünne Filme mit Geräten wie AMAT Centura DLH abzuscheiden. Der Reaktor besteht aus einem HF-Generator, der die Leistung zur Plasmaquelle erzeugt. Die Plasmaquelle innerhalb des Reaktors dient zur Erzeugung des Ionisationsprozesses, um die Gasmoleküle aufzubrechen und zu reagieren. Dieses Verfahren erzeugt dann die abgeschiedene Schicht auf dem Substrat. Die im System verwendeten Stromquellen sind RF (Radio Frequency) und DC (Direct Current). Die HF-Frequenz und -Leistung für die Plasmaerzeugung ist typischerweise 13.56MHZ und 250W. Die erzeugte Plasmaleistung ist variabel und kann entsprechend der gewünschten Materialabscheidung eingestellt werden. Zur schnellen Abscheidung von Folien können höhere Leistungen verwendet werden, müssen jedoch kontrolliert gehandhabt werden, um Schäden an der Kammer zu vermeiden. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DLH Reaktor hat auch einen Gas Mass Flow Controller (GFMCs) installiert, die eine genaue Kontrolle über die Niveaus der verwendeten Gase ermöglichen. Dieses Gas soll innerhalb des Systems eingestellt werden, um die gewünschte Materialabscheidungsrate zu erreichen. Centura DLH verfügt auch über eine Heizzone innerhalb des HF-Generators, mit der Temperaturen von bis zu 400 ° C erreicht werden können. Diese Temperatur kann zur Steuerung der Reaktionsgeschwindigkeit und Abscheidungsdicke der hergestellten Folien verwendet werden. Das Gesamtdesign von AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DLH ist sehr zuverlässig und liefert gleichmäßige Ergebnisse über mehrere Durchgänge. Die Kammer ist mit geringem Stromverbrauch, Betriebskosten und Wartungsaufwand ausgelegt und effizient bei der Herstellung von dielektrischen und dicken Folien. AMAT Centura DLH ist auch ein vollautomatisches Echtzeit-Überwachungsgerät, das die Überwachung der Prozessparameter und notwendige Anpassungen für optimale Leistung ermöglicht. Abschließend ist APPLIED MATERIALS Centura DLH ein zuverlässiger und vielseitiger PECVD-Reaktor, der die Herstellung von dielektrischen und dicken Folien in Produktionsumgebungen ermöglicht. Der Reaktor nutzt eine HF-Stromquelle, um das Plasma zu erzeugen und hat auch Regler GCMs, um die Niveaus der verwendeten Gase zu steuern. Mit seinem geringen Stromverbrauch und den geringen Betriebskosten ist der Reaktor ein kostengünstiges und effizientes Werkzeug für die mikroelektronische Industrie. Centura DLH verfügt außerdem über eine automatische Echtzeitüberwachung, die eine optimale Leistung und zuverlässige Ergebnisse ermöglicht.