Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPN #9156591 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPN ist ein fortschrittlicher All-in-One-Abscheidungsreaktor, der für die Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt und verwendet wird. Dieser Abscheidungsreaktor ist auf dem neuesten Stand der Technik und bietet eine breite Palette fortschrittlicher Funktionen wie Mehrzonentemperaturregelung, Nassätzfähigkeiten, hohe Abscheideraten und niedrige Partikelerzeugung. AMAT Centura DPN verfügt über eine vertikale Kathode im Magnetron-Stil, die mit einem Mehrzonensubstratheizer zur präzisen Temperaturregelung gekoppelt ist und alle in eine einzige, voll ausgestattete Bearbeitungskammer integriert sind. Dieses System bietet eine hervorragende Foliengleichmäßigkeit und hervorragende Prozesswiederholbarkeit sowie eine Reihe optionaler Funktionen, darunter Gasferneinspritzung, automatisierte Lade- und Entladefähigkeit, In-situ-Messtechnik und In-situ-Drosselung. Die Mehrzonen-Temperaturregelung und aktive Schleppsteuerung von APPLIED MATERIALS CENTURA (DPN) ermöglicht gleichmäßige Temperaturen und Substratgleichförmigkeit. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DPN ist in der Lage, gleichmäßige Temperaturen über eine breite Palette von Geometrien mit einer Genauigkeit von ± 2,0 ° C und einer Oberflächentemperatur-Gleichmäßigkeit von ± 1,0 ° C zu halten. Dies ermöglicht eine hervorragende Prozesskontrolle, die höhere Abscheideraten und gleichmäßige Folien ermöglicht. Centura DPN verfügt über eine außergewöhnliche Durchsatzfähigkeit mit seiner schnellen, 10-stufigen sequentiellen Abscheidefähigkeit. Diese Einheit opfert nicht die Leistung, während hohe Durchsatzraten durch fortschrittliche Prozesssteuerungsalgorithmen, die Kontrolle auf Abscheidungsgleichförmigkeit, Temperaturgleichförmigkeit und Wiederholbarkeit der Prozesse erreicht werden. CENTURA (DPN) wurde für fortschrittliche Halbleiterbauelementherstellungen entwickelt und optimiert und bietet eine ideale Lösung für eine Vielzahl von Anwendungen in mehreren Branchen. Dieser Abscheidungsreaktor bietet ausgezeichnete Prozesswiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit sowie hohe Durchsatzraten und ist somit eine ideale Substratverarbeitungsmaschine für die anspruchsvollsten Anwendungen zur Herstellung von Halbleiterbauelementen.