Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G2 #9188278 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G2 ist ein thermischer Reaktor für die Halbleiterverarbeitung. Angetrieben wird es von einem leistungsstarken Mehrzonen-Prozessmodul, das Temperaturen von bis zu 1200 ° C für die Substratverarbeitung erreichen kann. Das System besteht aus einer doppelwandigen Edelstahl-Vakuumkammer mit integriertem Vakuumverstärker, der bis zu 200 Tonnen Vakuumkapazität bereitstellen kann. AMAT Centura DPS G2 umfasst exklusive In-situ-Gasspültechnologie sowie automatisierte Systeme zum Be- und Entladen von Wafern. Die Reaktorkammer besteht aus einem Aluminiumoxidkeramikinnenraum und drei separaten äußeren Abschnitten mit einem verriegelten Deckel, der jedem Abschnitt beiliegt. Ein Quarzfenster im Deckdeckel erleichtert die Sicht auf das Innere der Reaktionskammer, während die verbleibende Außenschale Kühlkanäle enthält, durch die zur optimalen Temperaturregelung Inertgas zirkuliert werden kann. Die Centura verfügt über einen innovativen „Oasis-Effekt“, der mit patentierter In-situ-Gasspültechnologie die Gaswerte in der Kammer reinigt und überwacht. Dieser Prozess bietet eine verbesserte Umweltkontrolle, die für eine optimale Kontrolle der Kammerkontamination und Waferqualität erforderlich ist. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DPS G2 bietet gegenüber herkömmlichen thermischen Reaktoren mehrere deutliche Vorteile. Die Vakuumkapazität ist nicht nur bis zu 7-mal größer als die eines gleichwertigen herkömmlichen Instruments, sondern verfügt auch über ein integriertes ultra-hochreines Gaszufuhrsystem, eine Hochgeschwindigkeitsprofilabtastung und eine Mehrzonensubstrattemperaturregelung. Darüber hinaus ist das System mit fortschrittlicher Leistungssteuerung konzipiert, so dass Anwender für jedes Substrat präzise optimale Prozessbedingungen und eine wiederholbare Verarbeitung gewährleisten können. Der Einsatz von Centura DPS G2 für die Halbleiterverarbeitung wird durch seine Flexibilität zur Aufnahme eines Arrays von ein- und mehrstufigen Prozesslösungen weiter verbessert. Dazu gehören Spezialanwendungen wie Tieftemperaturfertigungen, Hochtemperaturglühen, Oxidation, Nitridierung und selektives epitaktisches Wachstum. Die Mehrzonen-Temperaturregelung stellt sicher, dass jedes Substrat eine personalisierte Wärmebehandlung erhalten kann, wodurch es eine Vielzahl verschiedener Verarbeitungsszenarien durchführen kann. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G2 ein idealer thermischer Reaktor für eine Vielzahl von Halbleiterprozessanwendungen. Seine umfangreiche Steuerbarkeit, robuste Konstruktion und hohe Betriebskapazität machen es zu einem zuverlässigen und leistungsstarken Werkzeug für konsistente und zuverlässige Prozessergebnisse.