Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA #9379818 zu verkaufen

AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 Reaktor ist eine Ätzkammer, die in den Halbleiterherstellungsverfahren verwendet wird. Diese Ausrüstung wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Anwendungen beim Ätzen und Abscheiden zu unterstützen und eine Vielzahl von Substraten mit hohem Durchsatz und Gleichmäßigkeit zu versorgen. Sein einzigartiges Design bietet maximale Flexibilität und Skalierbarkeit und ermöglicht es, einzigartige oder Prototypen effektiv zu bearbeiten und gleichzeitig die Kompatibilität mit branchenüblichen Prozessen zu gewährleisten. Der AMAT Centura DPS G5 Reaktor besteht aus zwei verschiedenen Komponenten: der Kammer und dem Kammerregler. Die Kammer besteht aus einem in einem Aluminiumkörper horizontal gelagerten Quarzzylinder, der die Temperaturgleichförmigkeit und die aktiven Komponenten unterstützt. Im Inneren der Kammer befindet sich die zylindrische Elektrode, die das Substrat aufnimmt. Der Kammerregler bietet Echtzeit- und geschlossene Steuerung von/und Rückkopplung an Kammerkomponenten, die eine präzise Steuerung von Substrattemperatur, Druck, Durchfluss und HF-Leistung ermöglicht. Um diesen genauen Regelungsanforderungen gerecht zu werden, ist der G5 Reactor mit einem turbinengetriebenen Gasstagingsystem und digitalen Temperatur- und Druckreglern ausgestattet. Die Gasfördereinheit verwendet eine differenzdruckgetriebene Stufentechnik, um einen optimalen atomaren/molekularen Fluß und eine gleichmäßige Umgebung innerhalb der Kammer zu gewährleisten. Dies führt zu schnelleren Verarbeitungsgeschwindigkeiten bei gleichzeitig ausgezeichneter Gleichmäßigkeit. Zusätzlich überwacht und regelt der Druckregler den Druck innerhalb der Kammer, um das Risiko einer Kontamination durch externe Quellen zu minimieren. Schließlich ist der G5-Reaktor in der Lage, eine Vielzahl von HF-Leistungsoptionen zu unterstützen, von 200kHz-1.7GHz, so dass eine breite Palette von dynamischen Ätzfähigkeit. Der G5 Reaktor bietet eine umfassende Gleichmäßigkeitskontrolle sowohl für die Gleichmäßigkeit des Substrats als auch des Prozessgases. Mit seinen hohen Gleichmäßigkeiten und der präzisen Regelung von Temperatur, Druck, Strömung und HF-Leistung ist der G5 Reaktor eine ideale Maschine für viele Halbleiterherstellungs- und Abscheidungsprozesse wie Sputterabscheidung, Plasmaätzen und chemische Dampfabscheidung. Sein robustes Design und seine Fähigkeit, Variationen in den Umweltbedingungen zu handhaben, machen es zu einer idealen Wahl für Ingenieur- und Forschungsumgebungen. Dank seiner optimierten Fähigkeiten eignet sich der Centura DPS G5 Reactor für eine Vielzahl von hochvolumigen, hochpräzisen Prozessen und ist eine hervorragende Waffe im Arsenal des modernen Halbleiterherstellungslabors.