Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA #9383829 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA ist ein Reaktor zur Abscheidung von Metalloxid-Halbleitern auf Silizium-Wafern bei der Herstellung von Halbleiterchips. Der Reaktor verfügt über eine Kammer, die in einer modifizierten superkritischen ionengestützten Abscheidungstechnologie (SIAD) eingebaut ist. Dieses Verfahren wird verwendet, um eine konforme Schicht gleichmäßiger Dicke auf Wafern oder Substraten abzuscheiden, ohne eine übermäßige Partikelverunreinigung zu verursachen. Die Kammer ist mit einer Quarzbaugruppe aus Quellen, Stromversorgungen und formbaren Tiegeln ausgestattet, um eine hochpräzise thermische Steuerung zu gewährleisten. Das Verfahren für AMAT Centura DPS G5 MESAMakes Verwendung einer zeitabhängigen Plasmaquelle, um eine präzise Abscheidung von hochwertigen Folien zu ermöglichen. Dieses Verfahren verwendet ein Sauerstoffplasma, das typischerweise bei 400 Watt erzeugt wird, um einen dünnen Siliziumdioxidfilm auf die Oberfläche des Wafers abzuscheiden. An diese Abscheidung schließt sich dann ein Sputter hoher Dichte an, so daß zusätzliche Metalle zugesetzt werden können. Das Sputtern beschleunigt den Transport der Oxid- und Metallpartikel vom Substrat weg. Das Verfahren ist in der Lage, Art, Dicke und Zusammensetzung der leitfähigen Halbleiterschichten zu steuern. Auf der Außenseite von AMAT Centura DPS G5 MESA ist eine Seitentafel, die es dem Benutzer ermöglicht, das erzeugte Plasma zu überwachen, um die Genauigkeit innerhalb der Setup-Parameter und die optimale Wachstumsrate zu gewährleisten. Die Vorrichtung hat auch eine hochzuverlässige, untergetauchte Gaszufuhr, die druckgesteuertes Sauerstoffgas in die Kammer einspritzt, um die Filmgleichförmigkeit besser zu steuern. Eine Vielzahl von Sensoren, darunter ein Temperatursensor, ein Sauerstoffsensor und ein Drucksensor, ermöglichen eine genauere und wiederholbare Steuerung des Prozesses. Das innovative Design von APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA macht es zu einer idealen Wahl für präzise und konsistente Ablagerungen über mehrere Prozessstationen gleichzeitig. Das System profitiert von einer präzisen Radiofrequenz-Abstimmung, die es dem Benutzer ermöglicht, sich auf eine bessere Filmgleichmäßigkeit und Filmabscheidungsraten einzustellen. Es bietet auch interne Filtration zum Schutz vor Prozessverunreinigungen in die Kammer. Der Benutzer kann jeden Aspekt des Prozesses steuern und überwachen, um die besten Ergebnisse zu gewährleisten. Centura DPS G5 MESA ist ein hocheffizienter und zuverlässiger Reaktor zur Abscheidung von Metalloxid-Halbleitern auf Silizium-Wafern. Der Reaktor verfügt über ein patentiertes SIAD-Kammerdesign, eine Seitentafel zur Überwachung der Plasmaerzeugung, eine zuverlässige Gasversorgung, verschiedene Sensoren und eine präzise Hochfrequenzabstimmung, so dass der Benutzer präzise Filme und vorhersehbare Ergebnisse produzieren kann.