Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 #293817653 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 Reaktor ist eine Hochleistungs-Ätz-/Abscheideausrüstung, die für die Verarbeitung einer breiten Palette fortschrittlicher Materialien in der Waferherstellung entwickelt wurde. Es verwendet eine skalierbare, Einzel-Wafer-Plattform, die die Abscheidung von dünnen Filmen in einer Vielzahl von Dicken für eine Vielzahl von Anwendungen ermöglicht. Das Werkzeug ist mit Hochleistungs-, Hochvakuum- und Hochdurchsatzverfahren ausgestattet und kann Materialien mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Kontrolle aus großflächigen Substraten mit maximalen Prozessraten herstellen. Die Kammergröße des AMAT Centura DPS G5 Reaktors misst 8 Zoll im Durchmesser und kann bis zu 8 Zoll Durchmesser Wafer aufnehmen. Es verwendet eine einzigartige integrierte Plasmaquelle, die ihm eine höhere ionisierbare Teilchendichte als andere Reaktoren verleiht. Dies bedeutet, dass Anwender höhere Ätz- und Abscheideraten bei geringerem Energieverbrauch erreichen können. Die Plasmaquelle hilft auch bei der Kontrolle der Partikelkontamination und ermöglicht den Einsatz von Trockenätzmaterialien mit geringerem Risiko für Schäden am Wafer. Der Reaktor ist vollautomatisch konstruiert und kann mit einer Vielzahl von Wafermaterialien verwendet werden, darunter: Silicium, Galliumnitrid, Indiumphosphid, Aluminiumnitrid, Siliciumcarbid und andere Verbindungen. Die Wafer-Lade-/Entladestation von APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 Reaktor wird über einen Roboterarm betrieben, der schnelle, einfache und präzise Manipulationen des Wafers ermöglicht. Dieses System ist mit einer Automatisierungseinheit integriert, die das Be- und Entladen des Wafers und der anderen Funktionen des Reaktors steuert. Die integrierte Computermaschine bietet auch erweiterte Messtechnik, Datenverwaltung und Prozessüberwachung. Centura DPS G5 Reaktor ist sehr zuverlässig mit einem Regelwerkzeug, das trotz veränderter Prozessbedingungen optimal arbeitet. Es bietet auch hohe Empfindlichkeit durch seine hochauflösende bildgebende Anlage und aktives Kühlmodell. Dieses Werkzeug verfügt auch über eine eingebaute Vakuumausrüstung, die den Aufbau von abgeschiedenen Partikeln und Partikeln, die schädliche Partikel tragen, reduziert und verhindert. Abschließend ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 Reaktor ein fortschrittliches Hochleistungs-Ätz-/Abscheidungssystem, das hohe Leistung und Genauigkeit bietet. Es ist ein ideales Werkzeug für eine Vielzahl von Wafermaterialien, und seine integrierten Funktionen helfen, Prozesseffizienz und Qualität zu optimieren.