Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 #9309116 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5
ID: 9309116
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Etcher, 12" Process chamber Mesa chamber 2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 ist ein spezieller Plasmareaktor, der für die Produktion fortschrittlicher Nanometerstrukturen und Geräteeigenschaften in hohen Stückzahlen ausgelegt ist. Es ist eine all-in-one, in sich geschlossene Plattform, die die beiden Vakuumverarbeitungstechnologien der Oberflächenaktivierung und Plasmaabscheidung in einem einzigen Cluster-fähigen Gerät kombiniert. Der AMAT Centura DPS G5 Reaktor besteht aus verschiedenen Komponenten, wie einer Niederdruckplasmaquelle, einem Display, einem Wafertransport, einem Umweltsystem und einer chemischen Fördereinheit. Die Niederdruckplasmaquelle dient zur Herstellung der in der Plasmabearbeitung verwendeten reaktiven Spezies. Es kann bis zu einem Betriebsdruck von 4 mtorr gebrannt werden. Das Leistungsdisplay inklusive Stromversorgung und Frequenzsteuerung dient der Abstimmung des Plasmareaktors für einen optimalen Betrieb. Diese Anzeige ermöglicht auch eine vollständige Anpassung der Reaktorparameter. Der Wafertransportabschnitt von APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 ist für den sicheren und zuverlässigen Transport von Wafern vom Waferlader zur Plasmakammer bei optimaler Wärmeleistung ausgelegt. Dieser Transport umfasst auch die Handschuhkarton-Schnittstelle mit der Wafer-beladenen Kassette, Vakuum-Trennventile und optische Erfassung. Die Umweltmaschine von Centura DPS G5 bietet Reaktionsgase, adaptive Plasmaleistungsregelung, Hintergrundgasschaltung und Rezepte in einem vollautomatischen und einfach zu bedienenden Werkzeug. Diese Ressource sorgt für höchste Qualität und wiederholbare Plasmaätzprozesse. Das Chemikalienliefermodell des DPS G5 besteht aus chemischen Dosierkrümmern und ist in der Lage, den Produktionsbereich präzise chemisch zu versorgen. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 bietet dank seiner robusten Mikrosubstratplattform und dualen Vakuumverarbeitungstechnologien wiederholbare und steuerbare Prozesse zu effizienten Kosten. Dieser Reaktor ermöglicht schnelles Ätzen, Abscheiden und Reinigen von Metallen, Oxiden, Nitriden und mehr mit genauer Präzision in einer branchenführenden Rate. Das benutzerfreundliche Bedienfeld, die vollständige Softwareintegration und die Netzwerkkonnektivität ermöglichen es Benutzern, einen konsistenten Prozess in einer leicht zugänglichen Schnittstelle aufrechtzuerhalten.
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