Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 #9379814 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 ist ein Reaktor der 300-mm-Silizium-Scheibenfamilie mit Ultima-Leistung, der die modernsten Gerätestrukturen ermöglicht. Es wird verwendet, um Materialien wie Polysilizium, Oxide, Nitride und Silizide bei höherer Temperatur bis zu 800oC zu verarbeiten. AMAT Centura DPS G5 verfügt über einen optimierten Wafer-Durchsatz im Vergleich zu anderen Reaktoren. Es ist mit DPC-Technologie (Digital Process Control) ausgestattet, die eine hohe Wiederholgenauigkeit mit digitaler Steuerung zur Stabilisierung der Kammerumgebung ermöglicht. AMAT Centura verfügt auch über schnelle Ramping-Funktionen, um thermische Budgets zu minimieren und die Wiederholbarkeit von Prozessen und Entgaszeiten zu verbessern. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DPS G5 bietet atomisiertes aktiviertes Plasma, das verwendet wird, um die Oxide und Nitride in ihre katalytische Form für die CVD-Integration zu reduzieren. Diese Funktion ermöglicht es dem Reaktor, eine verbesserte Produktionslinienleistung durch eine sehr gleichmäßige Prozessgasverteilung, eine schnelle Reaktionszeit und eine präzise Kontrolle der Filmdicke zu erzielen. Der Reaktor weist einen direkt angetriebenen Linearaktor auf, der zu einer höheren Genauigkeit und Wiederholbarkeit für fortgeschrittene zweischichtige Schichtabscheidungsprozesse führt. Diese Reaktionen haben auch eine überlegene Reinigungskontrolle durch Verwendung einer Rapid-Response RF/Plasma-Serie. Centura DPS G5 verfügt über eine Zwei-Substrat-Heizung Option, die hohe Temperatur und Hochdruckreaktion für eine erweiterte Anzahl von Wafern ermöglicht. Es hat auch einen Quarz- oder Bornitrid-Suszeptor mit DDR-Last/Entladung, um Rückwärtsmigration und Luftexposition von Wafern zu reduzieren. Es ist mit Prozessrezeptsteuerungsfunktionen ausgestattet, die Prozesswiederholbarkeit, Einheitlichkeit und Reproduzierbarkeit garantieren. Ermöglicht zudem eine optimierbare Wafer-zu-Wafer-Verteilung und Prozessleistung bei überlegener Prozessqualität. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 ein zuverlässiges fortschrittliches Abscheidungssystem, das sich ideal für die Herstellung hochleistungsfähiger fortschrittlicher ICs sowie Halbleiterbauelementstrukturen eignet. Sein ausgeklügeltes Design und verschiedene programmierbare Funktionen machen es zu einem der fortschrittlichsten Abscheidungssysteme in der heutigen Branche.