Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 #9379820 zu verkaufen

ID: 9379820
Wafergröße: 12"
Etcher, 12" (3) Mesa chambers Axiom chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 ist ein Hochleistungsreaktor, der die Produktivität maximiert und die Kosten senkt. Es ist ein einzelner Wafer, hohe Produktivität, Inline-Ausrüstung, die Dual Plasma Source (DPS) -Technologie verwendet. Das System basiert auf der zweifrequenten, HF-gesteuerten Plasmaquelle, die bei hohen Drücken und Temperaturen hochdichte Plasmen erzeugen kann. Die DPS-Technologie hilft dabei, unterschiedliche Gasprofilverteilungen des Plasmas über den Wafer zu erzeugen. Die Dual-Gas-Injektionseinheit hilft, Gleichmäßigkeit und Strukturierung zu gewährleisten, wodurch die Ätzgleichförmigkeit über den Wafer erhöht wird. Die Maschine verfügt auch über ein integriertes Plasma-Überwachungs- und Steuerungswerkzeug, das hilft, ein konsistentes Profil aufrechtzuerhalten. Der Reaktor ist auch mit einer modularen Architektur ausgelegt, so dass er konfiguriert und neu konfiguriert werden kann, um verschiedenen Prozessanforderungen gerecht zu werden. Dieser modulare Aufbau hilft auch, Ausfallzeiten zu reduzieren und die Prozessentwicklung zu beschleunigen. Der Reaktor verfügt auch über ein breites Spektrum an Prozessfähigkeiten, von Niederdruckprozessen bis hin zu Hochleistungsprozessen. Der modulare Aufbau ermöglicht auch mehrere Konfigurationen und Prozessoptionen und ist damit ein ideales Werkzeug für Produktion und Entwicklung. AMAT Centura DPS G5 ist ein ideales Werkzeug für fortschrittliche Anwendungen, die hohe Präzision, hohen Durchsatz und Gleichmäßigkeit über den Wafer erfordern.
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