Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS I #9358215 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS I ist eine chemisch isolierte, hochleistungsfähige Abscheide- und Ätzreaktorausrüstung, die die Herstellung fortschrittlicher mikroelektronischer Geräte optimiert. Das System ermöglicht ein hohes Durchsatz- und zuverlässiges epitaktisches Wachstum von Verbundhalbleitermaterialien. Es vereint die Vorteile der atomaren Schichtabscheidung (ALD) und der CVD-Prozesse (Chemical Vapor Deposition) in einer einzigen Einheit, um Endbenutzern eine unübertroffene Ätz- und Abscheidungssteuerung zu ermöglichen. Die Maschine verfügt über erweiterte Prozesssteuerungs- und Messtechnik-Module, um eine präzise und wiederholbare Herstellung komplexer Gerätestrukturen auf fortschrittlichen Substraten zu gewährleisten. AMAT Centura DPS I ist für schnelle thermische Verarbeitung, atomare Schichtabscheidung und chemische Aufdampfanwendungen konzipiert. Mit einer breiten Palette von Prozessfähigkeit macht die Vielseitigkeit der Plattform es ideal für die Herstellung einer breiten Palette von mikroelektronischen Geräten, einschließlich Speicher, Logik und Power-ähnliche Geräte. Das Werkzeug verwendet einen effektiven Fördermechanismus, der mehrere Rezept-Ausführungen gleichzeitig unterstützt, so dass es eine ideale Wahl für hohe Serienproduktion ist. Angewandte Materialien Centura DPS I Reaktor verfügt über eine vertikal angeordnete Reaktionskammer (RFV) mit einem Volumen von bis zu 8 Litern. Es ist von sechs elektrischen Platinen umschlossen, die jeweils mit einer modularen Architektur verbunden sind, die sowohl die Wartung von Anlagen als auch die Wartung von Prozessen vereinfacht. Das gesamte Modell ist in einer hermetisch abgedichteten Umgebung eingeschlossen, die auf Temperaturen von bis zu 170 ° C und einen Unterdruck von weniger als 1,5 mTorr eingestellt werden kann. Der Reaktor verfügt über einen integrierten Mass Flow Controller (MFC), der von einer intelligenten Steuerung auf Gerätestufe mit verteilter Intelligenz betrieben wird. Dadurch kann der Reaktor eine genaue thermische Steuerung über einen expansiven Temperaturbereich erreichen, wobei die erreichbaren Mindestschritte bis zu 10 mK/min betragen. Das Gerät bietet zudem einen programmierbaren Pulsmodus und eine integrierte intelligente Q-Steuerung für eine beispiellose Ätzprozesssteuerung. Die Reaktormaschine verwendet auch ein Zweikammer-Gasschatten- und Spülwerkzeug, das das Substrat schützt und gleichzeitig eine hochgleichmäßige Kontrolle der Ätz-/Abscheideoberfläche gewährleistet. Die fortschrittliche Software des Asset bietet dem Benutzer auch Wafer-Mapping-Funktionen, vorausschauende Q-Steuerung und automatisierte Wafer-Tracking vom Load-Port zum Load-Port. Centura DPS I ist ein spannendes Tool, das seinen Anwendern die Möglichkeit bietet, ihre Chipleistung und -effizienz zu steigern und beste Erträge zu erzielen. Mit seinen wiederholbaren, zuverlässigen und einheitlichen Abscheide- und Ätzfähigkeiten hat sich dieses Modell als unschätzbares Gut für die Herstellung von Chips und die Produktion von Wafern erwiesen.