Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Mesa HP #9314662 zu verkaufen

ID: 9314662
Wafergröße: 12"
Etcher, 12" Poly etch (3) DPS II Chambers Axiom chamber RF Gen rack AC Rack Missing parts: KAWASAKI ATM Robot EFEM Buffer chamber ( VHP Robot) Turbo pump.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Mesa HP ist ein hochentwickelter Waferbearbeitungsreaktor für optimale Geschwindigkeit und Genauigkeit. Es verwendet ein Mehrzonenkammerdesign, um eine gleichmäßige Erwärmung und Abscheidung von Materialien zu gewährleisten, um konsistente Ergebnisse zu gewährleisten. Die Prozesskammer verfügt über einen integrierten Tisch mit rund drei horizontalen Zonen für bis zu sechs Einzelkreiskühllösungen mit unabhängiger Temperaturregelung. Diese Tabelle ermöglicht simultane Prozesse, wodurch Anwender einen höheren Durchsatz und schnellere Zykluszeiten erzielen können. Die Reaktorkammer ist von einem Vakuumkrümmer umgeben. Durch die Ausbildung des Verteilers wird sichergestellt, dass der Prozess in einem Vakuum durchgeführt wird, das eine gleichmäßige Abscheidung und Ätzung der Wafer ermöglicht. Die Kammer ist ferner mit einer Gaseinspritzeinrichtung ausgestattet, um Prozessgas in exakten Mengen und Verhältnissen entlang der gemessenen Prozesstemperaturen bereitzustellen. AMAT Centura DPS II AE Mesa HP ist auch mit einem AMAT Control System ausgestattet, das es Verfahrenstechnikern ermöglicht, individuelle Rezepte für verschiedene Installationen zu erstellen. Es bietet auch eine Echtzeit-Überwachung der Prozessbedingungen und ermöglicht die Prozessoptimierung. Zusätzlich ist das Gerät mit Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, um die Einhaltung der geforderten Sicherheitsstandards zu gewährleisten. Auch dieser Reaktor sorgt für hohe Genauigkeit und eine gleichmäßige Dicke der abgeschiedenen und geätzten Materialien. Es bietet auch eine ausgezeichnete Wiederholbarkeit und eine hohe Prozesskontrolle, um die Ausbeuten im Waferproduktionsprozess zu verbessern. Zum Schluss ist APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Mesa HP darauf ausgelegt, eine Hochleistungs-Waferbearbeitung mit gleichmäßigem Erhitzen, Abscheiden und Ätzen zu ermöglichen. Dieser Reaktor ist mit einem Vakuumkrümmer, einer Gaseinspritzmaschine und einem Steuerwerkzeug ausgestattet, wodurch Anwender ein leistungsstarkes Werkzeug zur Lieferung einheitlicher und wiederholbarer Prozesse erhalten. Darüber hinaus ist dieser Reaktor für maximale Prozesssicherheit, Genauigkeit und Ausbeuten ausgelegt.
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