Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Minos #9366381 zu verkaufen

AMAT (APPLIED MATERIALS/APPLIED) AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Minos Reactor ist eine vollautomatisierte elektrochemische Ätzausrüstung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Das System besteht aus einer gelbasierten Plasmaquelle, die eine hohe Selektivität und hervorragende Ätzgleichmäßigkeit bietet. Es verfügt über eine Ultra-High Vacuum (UHV) -Verarbeitungskammer, einen Mehrfachwafer-Kassettenlader und einen Hochleistungspool von Prozessen, um zuverlässige, wiederholbare Ergebnisse zu liefern. Die UHV-Bearbeitungskammer ist mit einem einzigen Waferloadlock ausgestattet, der für die Beladung von Wafern bis 8 Zoll Durchmesser und bis maximal 15 Zoll ausgelegt ist. Die Kammer hat eine Toleranz für Betriebsdrücke zwischen 1,3 x 10-3 Torr und 150 Torr, was bedeutet, dass sie eine saubere Umgebung beibehält, um die Gleichmäßigkeit der Ätzergebnisse zu maximieren. Die mehrfache Wafer-Kassettenlader-Einheit ermöglicht die Zentrierung, Verfolgung und Bewegung einzelner Wafer automatisch und ermöglicht das Be- und Entladen von bis zu 8 Zoll breiten Wafern mit hoher Geschwindigkeit. Zusätzlich ermöglicht ein thermisches Schaltventil ein schnelles Be- und Entladen mehrerer Waferpartien unter Aufrechterhaltung des Prozessvakuums. AMAT Centura DPS II AE Minos Reactor ist darauf ausgelegt, effektiv und sicher zu ätzen. Es bietet eine erweiterte Liste von Ätzchemien, die eine vollständige Variabilität der Ätzparameter ermöglicht. Es wird durch eine dedizierte Automatisierungsschicht unterstützt, um Prozessrezepte zu optimieren und wiederholbare Leistung zu gewährleisten. Die Maschine verfügt über ein eingebautes Gasregelventil zur Optimierung von Ätzrate und Seitenwandwinkel, während eine benutzerfreundliche Plasmaquellensteuerung zusätzliche Flexibilität für aktuelle Ätzprozesse bietet. Darüber hinaus kommt APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Minos Reactor mit zahlreichen Sicherheitsmerkmalen. Es ist mit einem Advanced Process Control (APC) -Werkzeug ausgestattet, um auslaufende Zustände aufgrund unerwarteter Ereignisse zu verhindern, sowie verschiedene visuelle Alarme und Warnsysteme, die das Personal auf mögliche Probleme aufmerksam machen sollen. Darüber hinaus integriert die Anlage ein mehrstufiges Sicherheits-Gate-Modell, um unerwartete Reaktionen und Reaktionen auf Fremdmaterialien zu verhindern. Abschließend ist AMAT/APPLIED MATERIALS (AMAT/APPLIED) Centura DPS II AE Minos Reactor eine robuste, vollautomatisierte elektrochemische Ätzausrüstung, die für die hochpräzise Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Es bietet eine breite Palette von Ätzchemien und Prozessparametern, gepaart mit einem zuverlässigen Sicherheitssystem und einer speziellen Automatisierungsschicht für wiederholbare Ergebnisse.