Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Poly G3 #9195071 zu verkaufen
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ID: 9195071
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Poly etcher, 12"
(3) Process chambers
Factory interface configuration
Front end PC type: 4.0 FEPC
FIC PC Type: CPCI
(3) Load ports
A3 Type: Atmospheric robot KAWASAKI single fixed robot
Side storage: Right and left
Mainframe configuration
IPUP Type: ALCATEL A100L
Gas panel type: Standard
VHP Robot: Dual blade
MF PC Type: CL7
Chamber configuration:
Chamber A:
Chamber model: DPS II Poly
Bias gen: AE APEX 1513, 13.56 MHz
Bias match: AE 13.56 MHz, 3 kv navigation
Source gen: AE APEX 3013, 13.56 MHz
Source match: AE 13.56 MHz, 6 kv navigation
Turbo pump: STP-A2503PV
Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320
FRC: MKS FRCA-52163310
ESC: Dual zone ceramic ESC
End point type: EyeD IEP
Chamber B / C:
Chamber model: DPS II Poly
Bias gen: AE APEX 1513, 13.56 MHz
Bias match: AE 13.56 MHz, 3 kv navigation
Source gen: AE APEX 3013, 13.56 MHz
Source match: AE 13.56 MHz, 6 kv navigation
Turbo pump: STP-A3003CV
Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320
FRC: MKS FRCA-52163310
ESC: Dual zone ceramic ESC
End point type: EyeD IEP
Missing parts:
AXIOM Chamber
RF Source
VODM
Throttle valve
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Poly G3 ist ein hochentwickelter Plasmaätzreaktor für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Dieser Reaktor eignet sich besonders gut für Prozesse mit Sub-500nm High-Aspect-Ratio-Eigenschaften, so dass er ideal für die Anforderungen der modernsten Chip-Designs ist. Der Reaktor ist Teil der Centura DPS II Serie und verfügt über einen modularen Aufbau, der es ermöglicht, eine Vielzahl von Anwendungen zu erfüllen, da sich die Anforderungen aus der Prozessoptimierung entwickeln. Der Reaktor enthält ein WF-belastbares Gefäß, so dass verschiedene Optionen wie nicht standardmäßige Wafergrößen oder Quarzorientierungen unterstützt werden können. Der Reaktor wird von einem fortschrittlichen AMAT Endura 5500 Stromversorgungssystem mit überlegener Leistung, präziser Steuerung und hoher Gleichmäßigkeit angetrieben. Dies ermöglicht es den Kunden, sowohl hohe Ätzraten als auch eine hervorragende Wiederholbarkeit der Ergebnisse mit jeder Charge zu erreichen. Das Stromversorgungssystem verfügt auch über Mehrfrequenzflexibilität, die der Benutzer an seine spezifischen Bedürfnisse anpassen kann. Der Reaktor hat eine siliziumbasierte Gate-Kompatibilität und entspricht den 300mm-Standards, wodurch er für eine Vielzahl von Chip-Designs geeignet ist. Es ist auch mit fortschrittlichen Funktionen wie einem integrierten Pumpen- und Gasanalysatorsystem entwickelt, um Leistung und Betriebseffizienz zu maximieren, die sicherstellt, dass Prozessfenster optimiert werden können, um den höchsten Ertrag zu erzielen. Der Reaktor ist mit mehreren Optionen und Funktionen erhältlich, wie einem Substratfutter-Set, optionalen Quelllampen und Plasmaüberwachungssystemen. Es verfügt auch über eingebaute Sicherheitsmechanismen, um sicherzustellen, dass die optimale Sicherheit und Produktivität jederzeit erhalten bleibt. AMAT Centura DPS II AE Poly G3 ist ein hochentwickelter und zuverlässiger Reaktor, der den Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Es bietet überlegene Leistung und Flexibilität und verfügt über ein modulares Design, das auf spezifische Anwendungsanforderungen zugeschnitten ist. Es eignet sich für Designs, die von Sub-500nm-Merkmalen bis zu 300mm-Chips reichen. Dies macht es eine gute Wahl für alle Arten von Halbleiteranwendungen.
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