Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #293607532 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II ist ein multifrequenter RTP-Reaktor (Rapid Thermal Processing), der für hochleistungsfähige, hochintegrierte Halbleiterscheibenanwendungen konzipiert ist. Diese Ausrüstung bietet überlegene Temperaturgleichmäßigkeit und Zuverlässigkeit für die anspruchsvollsten Anwendungen. Es verfügt über eine Hochtemperatur-Reaktionskammer, ein horizontales Gasströmungssystem und eine dynamische Temperaturregeleinheit, um optimale Verarbeitungstemperaturen zu gewährleisten. AMAT Centura DPS II ist ein vielseitiges Werkzeug, das in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt wird, einschließlich Abscheidung, Oxidation, Diffusion, Glühen und Epitaxie. ANGEWANDTE MATERIALIEN CENTURA DPS + II besteht aus zwei Teilen: der Hochtemperatur-Reaktionskammer und der dynamischen Temperiermaschine. Die Reaktionskammer kann Temperaturen von 100 ° C bis 1100 ° C erreichen und ist für Hochtemperatur-Waferreaktionen ausgelegt. Außerdem weist die Reaktionskammer ein isoliertes Wärmeleitwerkzeug auf, um eine gleichmäßige Temperatur innerhalb der Kammer zu gewährleisten. Der DPS II verfügt auch über eine horizontale Gasströmungszufuhr, die einen hohen Durchfluss (bis zu 200 slpm) von Gaspartikeln durch die Reaktionskammer liefert, um einheitliche Reaktionsbedingungen während des gesamten Prozesses zu gewährleisten. Das dynamische Temperiermodell ermöglicht eine präzise Temperaturregelung, um optimale Prozessergebnisse zu gewährleisten. Die Temperatur kann in Echtzeit für jeden Wafer eingestellt werden, um konsistente Ergebnisse zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt das Gerät über einen Hochfrequenz-Sparker, der eine Subsekundentemperaturverarbeitung ermöglicht. Dies ist wichtig für komplexe Prozesse und minimiert die Möglichkeit von unerwünschten Ergebnissen durch eine längere Bearbeitungszeit. Centura DPS II ist ideal für Anwendungen, in denen absolute Kontrolle über Temperatur, Gleichmäßigkeit und Geschwindigkeit erforderlich sind. Das System eignet sich gut für eine Reihe von Prozessen, darunter Abscheidung, Oxidation, Diffusion, Anneal und Epitaxie, und ist die ideale Lösung für eine breite Palette fortschrittlicher Halbleiterprozesse. AMAT CENTURA DPS + II ist eine äußerst zuverlässige, anpassbare und kostengünstige Lösung für leistungsstarke, integrierte Halbleiteranwendungen.