Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #293660388 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II ist ein einziges Waferbearbeitungssystem, das den höchsten Durchsatz und die Wiederholbarkeit auf dem Markt bietet, um Prozesszeiten zu reduzieren, Erträge zu verbessern und Erträge zu erhöhen und Komplexitäten für eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen zu reduzieren. Die Technologie ermöglicht eine weitere Skalierung von Halbleitern und Fortschritte in fortschrittlichen Transistorstrukturen und bietet gleichzeitig eine hervorragende Bauelementleistung. AMAT Centura DPS II verfügt über einen 55mm-Wafer-Fußabdruck, einen maximalen Waferdurchmesser von 155mm und eine maximale Waferdicke von 4,26 mm. Mit dem fortschrittlichen Wafer-Handling und der adaptiven Steuerung von APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II lassen sich Wafer-Level-Prozesse mit überlegener Wiederholbarkeit realisieren. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der Centura DPS II Reaktor eignet sich für Hochgeschwindigkeitsprozesse wie Ultraschnellglühen, Tieftemperaturglühen, Eintreib- und Tieftemperaturdotanten und ist damit ein ideales Werkzeug für die fortschrittliche Geräteentwicklung. Es bietet auch Unterstützung für hochempfindliche Materialien wie SiC und GaN, so dass Benutzer mit diesen Materialien in einer Temperatur- und Leistungshülle arbeiten können, die ihren jeweiligen Anforderungen entspricht. Die dedizierte hocheffiziente Plasmaquelle auf Centura DPS II bietet höchste Plasma-, Temperatur- und Prozessgleichförmigkeit über den gesamten Kammersoll- und Wafertemperaturbereich. Dies ermöglicht es Anwendern, hohe Plasmadichte, hohe Temperaturgleichmäßigkeit und Prozesskonsistenz über weite Bereiche der Wafergröße zu nutzen. Das Plasma wird durch eine oxidgeschirmte Öffnung aufgebracht, um einen totzeitfreien Betrieb zu gewährleisten. Die unabhängigen Multi-Mode-HF-Generatoren bieten eine robuste Kontrolle über den atmosphärischen Druck und die Plasmaleistung. Das umfassende In-situ-Sensor-Paket in AMAT CENTURA DPS + II ermöglicht es Benutzern, das Temperatur-, Druck- und Gasprofil ihrer Kammer in Echtzeit zu überwachen, was hilft, die höchste Ausbeute bei minimaler Unterbrechung zu erzielen. Die integrierten erweiterten Steuerungen des Reaktors erhöhen die Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit des Betriebs weiter. Darüber hinaus maximiert die programmierbare Impulssteuerung die Geschwindigkeit der Operationen und minimiert die Verweilzeit. Insgesamt bietet das reaktive System CENTURA DPS + II den höchsten Durchsatz und die Wiederholbarkeit, die heute auf dem Halbleitermarkt verfügbar sind. Mit seinem fortschrittlichen Wafer-Handling, seiner ausgezeichneten Plasmaquelle und dem umfassenden In-situ-Sensor-Paket ermöglicht AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II Benutzern die volle Nutzung ihrer Halbleiterentwicklungs- und Fertigungsfunktionen.