Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #293705867 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II
ID: 293705867
Weinlese: 2006
Poly etchers 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II ist ein plasmaverbesserter chemischer Dampfabscheidungsreaktor (PECVD), der in der Halbleiterindustrie zur Abscheidung von Filmen und Schichten mit präziser Kontrolle über Gleichmäßigkeit und Konformität eingesetzt wird. Der DPS II-Reaktor nutzt Hochfrequenz (RF) -Anregung und Mikrowellen-Plasmaerzeugung, um die Abscheidungsrate, Konformität und Gleichmäßigkeit genau zu steuern. Dies ermöglicht eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen, einschließlich fortgeschrittener Bauelementstrukturen wie Transistoren, RAM und Leiterbahnen. Der DPS II-Reaktor besteht aus einer versiegelten Kammer, in der ein endmontiertes Gasverteilungssystem untergebracht ist. Das endmontierte Gasverteilungssystem besteht aus Gaseinspritzöffnungen, Abgasanschlüssen und Heizungen. Durch die Gaseinspritzöffnungen werden Gase in die Kammer eingespritzt und durch eine Reihe von Leitblechen gleichmäßig über die Kammer verteilt. Die Kombination aus HF- und Mikrowellenleistung wird der gasgefüllten Kammer zugeführt, um ein hochdichtes Plasma zu erzeugen, mit dem die gewünschte Folie oder Schicht auf den Prozeßwafer aufgebracht wird. Der DPS II Reaktor verfügt auch über einen Bias Point Generator. Dieses Gerät liefert eine einstellbare Gleichspannung, die eingestellt werden kann, um das Profil und die Gleichmäßigkeit der Abscheidung auf dem Wafer zu steuern. Zusätzlich dient ein Druckregelventil zur Einstellung des Kammerdrucks zur optimalen Abscheidung. Der DPS II bietet eine hervorragende Prozesskontrolle und Gleichmäßigkeit mit seinen fortschrittlichen HF-, Mikrowellen- und Bias-Point-Generator-Technologien. Es kann verwendet werden, um Filme und Schichten für eine Vielzahl von fortgeschrittenen Halbleiterstrukturen abzuscheiden. Das endmontierte Gasverteilungssystem sorgt auch für eine gleichmäßige Abscheidung. Alle diese Merkmale kombinieren, um das DPS II zu einer ausgezeichneten Wahl für fortgeschrittene Halbleiterabscheidungsprozesse zu machen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor