Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9120412 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II Reaktor von AMAT ist eine fortschrittliche Waferbearbeitungsanlage, die die höchstmögliche Produktivität in der Halbleiterverarbeitung erreicht. Das System hat einen maximalen praktischen Durchsatz von bis zu 115 Wafern pro Stunde und ist damit einer der schnellsten Reaktoren der Branche. Die Anlage wird von einer Dreizonenquelle angetrieben, die Partikel aus dem evakuierbaren Glockenglas verdampft und in den Reaktor leitet, wodurch Partikelrückstände reduziert und die Leistung verbessert wird. Es umfasst auch zwei drehbare Substrathalter, zwei unabhängig gesteuerte Temperaturzonen und zwei entfernte Prozesssteuerzonen. Der AMAT Centura DPS II Reaktor bietet zudem eine hervorragende Steuerung der Prozessumgebung mit aktiver Temperatur- und Druckregelung. Die aktive Temperatur- und Druckregelung ermöglicht es dem Reaktor, die Prozesstemperatur, den Druck und die Atmosphäre streng zu kontrollieren, was zu einer möglichst hohen Produktausbeute führt. Die Maschine beinhaltet auch erweiterte Datenerfassung und Prozessrezept Ausführung, die die größtmögliche Kontrolle über Werkzeugleistung und Produktausbeute bieten. Die Datenprotokollierung ermöglicht es einem Betriebspersonal, die Laufzeitwerte kritischer Prozessparameter zu überwachen und so die Prozesssteuerung und die Produktausbeute zu verbessern. Mit der Ausführung der Prozessrezeptur bietet APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II ein hohes Maß an Genauigkeit und Wiederholbarkeit beim Betrieb komplexer Chemien mit mehreren Polysilizium- und Metallschichten. AMAT CENTURA DPS + II ist das perfekte Werkzeug für jede Halbleiterverarbeitungsumgebung, die hohen Durchsatz, schnelle Prozesszeiten und extreme Präzision benötigt. Mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften und der Kontrolle der Prozessumgebung ist AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II in der Lage, die höchsten Erträge und niedrigsten Defektraten für die komplexesten Chemien zu erzielen.