Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9189076 zu verkaufen
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ID: 9189076
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2002
Metal etcher, 8"
Platform type: Centura AP
Chamber configuration:
Chamber A & B: DPS II Metal bridge chamber, 8"
Chamber C: ASP II Chamber
Process chamber:
Process kits:
DPS II Metal parts / Chamber
Ceramic Lid
ESC Type: DPS II STD CESC, 8"
ESC Power supply: DPS II STD
Control type:
APPLIED MATERIALS STD (VAT)
Chamber A: 65048-PH52-AFS1 / 0583 A-664028
Chamber B: 65048-PH52-AFS1 / 0546 A-626798
EOP Type: Monochromator
Transfer chamber:
Robot type: VHP+ Dual blade
APPLIED MATERIALS STD LCF Detector
Loadlock chamber:
SWLL Body: (2) SWLL Chambers
EFEM:
(2) Loadports
ASYST Versaport 2200
Air intake system: APPLIED MATERIALS STD Intake
FI Robot: APPLIED MATERIALS Kawasaki
Wafer align: APPLIED MATERIALS STD
Wafer out of position detection: APPLIED MATERIALS STD
Remote interface:
Components interface:
Dry pump (Transfer chamber): IPUP Pump, ALCATEL A100L
Chiller
System monitor: Monitor 1 & Monitor 2
Flat panel with keyboard on stand
Components:
Turbo molecular pump: APPLIED MATERIALS STD BOC EDWARDS
RF Power system:
Source RF generator:
APPLIED MATERIALS STD / APEX 3013
Frequency / Max power: 13.56MHz / 3KW
Bias RF generator:
APPLIED MATERIALS STD / APEX 1513
Frequency / Max power: 13.56MHz / 1.5KW
RF Match box:
Source: Navigator 3013
Chamber A & B: 0190-15168
Bias: Navigator 1513
Chamber A: 0190-23623
Chamber B: 0190-15167
Utility specification:
Gas panel type: STD
Gas panel exhaust: Top center exhaust
(12) Gas lines
Gas line tape heater (for liquid gas): BCL3
MFC Configuration:
MFC type: Digital type
MFC Maker / Model (All Chamber): UNIT MFC
Gas information:
Gas Size
BCL3 200
CL2 200
NF3 100
HCL 100
NF3 20
N2 50
HE 100
O2 1L
SF6 400
CHF3 25
CF4 50
AR 400
Axiom + chamber:
Gas Size
NH3 1000
O2 10000
CF4 750
N2 1L
Independent helium control: APPLIED MATERIALS STD MKS 649A
Electricity:
AC Rack: APPLIED MATERIALS STD AC Rack
Power supply: 3 φ, 208 V, 400 A, 50/60 Hz
System controller:
FES: FEPC
FIS: Flex3
MF SBC: Flex3
CCM SBC: 166 MHz
MF Controller:
Mainframe devicenet I/O:
Cardcage and backplane board
2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II ist ein Dual-Zone Rapid Thermal Reaktor für fortschrittliche Materialbearbeitung in einer Vielzahl von Anwendungen. Es verfügt über einen leistungsstarken HF-Generator, der hohe Leistung mit präziser Temperaturregelung zur präzisen Verarbeitung von dünnen Folien, mehrschichtigen Strukturen und Gerätestapeln erzeugen kann. Die Hauptfunktion von AMAT Centura DPS II besteht darin, mehrere Schichten unterschiedlicher Materialien präzise und präzise auf ein Substrat aufzubringen. Dazu wird eine Doppelzonenkonfiguration des Dual-Zone Rapid Thermal Processor verwendet. Die beiden Zonen sind unabhängig, wodurch in jeder Zone präzise Temperaturprofile erzeugt werden können. Dies geschieht durch individuelle Steuerung der Heizungen, überwacht durch fortschrittliche computergesteuerte Steuerungen. Die Doppelzonenkonfiguration in APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II ermöglicht eine gleichmäßige Wärmeverteilung und präzise Temperaturregelung. Dies geschieht, indem beide Zonen auf unterschiedliche Temperaturen erwärmt werden, die durch benutzerdefinierte Parameter bestimmt werden. Der RTP-Reaktor hat auch die Fähigkeit, Gasgemische unterschiedlicher Zusammensetzung und Konzentration für präzise, zusammensetzungsgesteuerte Reaktionen zu enthalten und zu begrenzen. Centura DPS II nutzt die aktive Kühlung, um schnell abzukühlen, nachdem jede Zone eine gewünschte Temperatur für eine präzise und konsistente Abscheidung erreicht hat. Diese Mehrzonen-RTP-Konfiguration ermöglicht auch präzise Rampen- und Rampenabwärtsraten für jede Zone, was für die Erforschung der dünnen und dicken Filmabscheidung unerlässlich ist. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DPS II verfügt auch über fortschrittliche diagnostische Funktionen, die es Ingenieuren und Wissenschaftlern ermöglichen, die im RTP-Reaktor verarbeiteten Materialien genau zu überwachen und zu messen. Diese Überwachung eignet sich insbesondere für Mehrschicht- und Stapelgeräteexperimente, bei denen genaue Schichteigenschaften erwünscht sind. CENTURA DPS + II ist aufgrund der präzisen Temperaturregelung, der präzisen Abscheiderate und der präzisen Überwachungsfunktionen ein wertvolles Werkzeug für Wissenschaftler und Ingenieure in der fortschrittlichen materialverarbeitenden Industrie. Der Reaktor wurde in vielen Anwendungen eingesetzt, von der Herstellung von Halbleiterbauelementen, der Dünnschichtabscheidung und vielem mehr. Die Zentralheizung, Kühlung und Überwachung von AMAT CENTURA DPS + II machen es zu einem unschätzbaren Werkzeug in Forschung und industrieller Produktion.
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