Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9213077 zu verkaufen
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ID: 9213077
Poly etchers
Chamber A, B, C:
Model: DPS II
Bias generator: AE Apex 1513 13.56 MHz, maximum 1500 W
Bias match: AE 13.56 MHz, 3 kV Navigate
Source generator: AE Apex 3013 13.56 MHz, maximum 3000 W
Source match: AE 13.56 MHz, 6 kV Navigation
Lid: Ceramic lid, dual gas nozzle
Turbo pump: EDWARDS STP-A3003 CV
Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320
FRC: MKS FRCA-52163310, 500/500 1/4 VCR
ESC: Dual zone ceramic ESC
Cathode chiller: SMC POU
Wall chiller: SMC INR-496-016C
Process kit coating: Anodize coating
Cooling: HT 200 / FC 40
Chamber D:
Model: Axiom
Source generator: 5000W
Source match: AE Match (RF System)
Throttle valve: Throttling gate valve
ESC: Pedestal heater
Mainframe configuration:
IPUP Type: TOYOTA 100L
Gas panel type: NextGen
VHP Robot: Dual blade
MF PC type: CPCI
Factory interface configuration:
Frontend PC type: 306 M Server
FIC PC Type: 306 M Server
(3) Load ports
Atmospheric robot: KAWASAKI Single fixed robot (A3 Type)
Side storage: Right and left side
MFC Configuration:
EAS-52A Gas name Max flow MFC type
Gas 1 CL2 300 SC-24
Gas 2 NF3 50 SC-23
Gas 3 SF6 100 SC-24
Gas 4 HBR 500 SC-24
Gas 5 N2_20 20 SC-21
Gas 6 N2_200 200 SC-23
Gas 7 O2_50 20 SC-22
Gas 8 O2_400 400 SC-24
Gas 9 HE 500 SC-24
Gas 10 CHF3 200 SC-24
Gas 11 CF4 300 SC-24
Gas 12 AR 500 SC-24
EAS-52B Gas name Max flow MFC type
Gas 1 CL2 300 SC-24
Gas 2 NF3 50 SC-23
Gas 3 SF6 100 SC-24
Gas 4 HBR 500 SC-24
Gas 5 N2_20 20 SC-21
Gas 6 N2_200 200 SC-23
Gas 7 O2_50 20 SC-22
Gas 8 O2_400 400 SC-24
Gas 9 HE 500 SC-24
Gas 10 CHF3 200 SC-24
Gas 11 CF4 300 SC-24
Gas 12 AR 500 SC-24
EAS-52C Gas name Max flow MFC type
Gas 1 CL2 300 SC-24
Gas 2 NF3 50 SC-23
Gas 3 SF6 100 SC-24
Gas 4 HBR 500 SC-24
Gas 5 N2_20 20 SC-21
Gas 6 N2_200 200 SC-23
Gas 7 O2_50 20 SC-22
Gas 8 O2_400 400 SC-24
Gas 9 HE 500 SC-24
Gas 10 CHF3 200 SC-24
Gas 11 CF4 300 SC-24
Gas 12 AR 500 SC-24
EAS-52D Gas name Max flow MFC type
Gas 1 - - -
Gas 2 - - -
Gas 3 - - -
Gas 4 - - -
Gas 5 - - -
Gas 6 - - -
Gas 7 O2 10000 SC-27
Gas 8 4%H2/N2 5000 SC-26
Gas 9 - - -
Gas 10 N2 1000 SC-25.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II ist eine in situ Plasmabearbeitungsreaktorausrüstung, die für anspruchsvolle plasmaunterstützte Abscheide- und Ätzoperationen entwickelt wurde. Das System bietet eine hochpräzise thermische und Plasmakontrolle, die für die fortschrittliche Geräteherstellung erforderlich ist. AMAT Centura DPS II ist von Grund auf aufgebaut, um zuverlässige und wiederholbare Prozessergebnisse zu liefern. Das Gerät bietet eine präzise Steuerung von Prozessparametern wie Temperatur, Druck, HF-Leistung und Gasfluss und -gemisch. Es ist eine quelldotierte Reaktionskammer und verfügt über eine robuste Stromversorgung, die nahtlose Übergänge zwischen Hoch- und Niederleistungseinstellungen ermöglicht. Die Maschine verfügt außerdem über einen gasgekühlten Substrathalter zur Steuerung der Substrattemperatur und eine digitale Sonde, die Echtzeitprozessbedingungen innerhalb der Kammer misst. APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II ist auch ein intuitives Werkzeug und kann in Echtzeit programmiert und überwacht werden. HF-Strom- und Gasflusseinstellungen können über eine grafische Touchscreen-Schnittstelle eingestellt und verschiedene Prozessparameter während des gesamten Prozesses überwacht und protokolliert werden. Das Asset kann auch mit einem PC oder SPS zur automatisierten Steuerung integriert werden. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DPS II ist ein leistungsstarkes Werkzeug für diese Anwendungen und ist in der Lage, Geräte mit extrem hohen Erträgen zu produzieren und gleichzeitig eine hervorragende Geräteleistung zu erhalten. Das Modell bietet auch eine Reihe fortschrittlicher Sicherheitsfunktionen, einschließlich Überdruckalarme und Gasmischmonitore, um einen sicheren und kontrollierten Betrieb zu gewährleisten. Mit seiner einfachen Einrichtung und benutzerfreundlichen Oberfläche ist AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II eine ausgezeichnete Wahl für diejenigen, die eine präzise Prozesskontrolle und konsistente Ergebnisse wünschen.
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