Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9257444 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II ist ein leistungsstarker Hochdichte-Plasmaquelle (EHDP) -Reaktor, der entwickelt wurde, um Atomschichtabscheidung (ALD), plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidung (PECVD) und Niederdruck-chemische Dampfabscheidung (LpCCVVVD D D D) durchzuführen durchzuführen. Der Reaktor wird hauptsächlich bei der Herstellung von Dünnschicht-Halbleiterbauelementen wie integrierten Schaltungen und Transistoren aus dielektrischen und leitfähigen Materialien eingesetzt. Der Reaktor verfügt über zwei Plasmaerzeugungssysteme - eine induktiv gekoppelte Plasmaquelle (ICP) und eine magnetgebundene Gleichstrom-Glimmentladungsquelle (DCGD). Die ICP-Quelle dient zum Sputtern (Ätzen) von Materialien und die DCGD-Quelle zur ICP-gesteigerten Abscheidung von dünnen Filmen auf Wafern. Der modulare Aufbau des Reaktors ermöglicht einen einfachen Austausch von Komponenten und Flexibilität bei der Auswahl von Verarbeitungsparametern. AMAT Centura DPS II bietet hocheffiziente, durchsatzstarke und kostengünstige Verarbeitung für Serienreihen. Es verfügt über erweiterte automatische Sampling-Fähigkeiten, die detaillierte Charakterisierung von Proben zur Verfügung stellen und Prozessoptimierung ermöglichen können. Darüber hinaus verfügt es über ein leistungsstarkes Antriebssystem, das wiederholbare und präzise Filmwachstumsraten erreichen kann. Der Reaktor weist ferner eine Mehrkammerausführung mit einer Hauptkammer, einer Pumpkammer und einer Vorkammer zur einfacheren Wartung und Bedienung auf. Jede Kammer ist mit einem eigenen Kochsystem ausgestattet, das die Vergasung minimiert und eine hohe Präzisionssteuerung von Temperaturen und Drücken gewährleistet. Der Reaktor verfügt außerdem über ein automatisiertes Wafer-Be- und Entladesystem, das die manuelle Handhabung von Wafern eliminiert und die Gefahr von Verschmutzungen oder Beschädigungen reduziert. Der Reaktor ist in einem Reinraum der Klasse 10 untergebracht und bietet eine kontaminationsarme Umgebung für optimales Filmwachstum oder Abscheidung. Außerdem soll das Gehäuse den Energieverbrauch senken und die Energieeffizienz maximieren, was langfristig Kosteneinsparungen ermöglicht. Zusammenfassend ist APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II ein leistungsstarker EHDP-Quellenreaktor, der die Herstellung von hochvolumigen, hochpräzisen Halbleiterbauelementen ermöglicht. Sein modularer Aufbau bietet Flexibilität bei der Prozessauswahl und seine fortschrittlichen Funktionen wie automatische Probenahme und Wafer-Be-/Entladung machen es für die Produktion selbst der fortschrittlichsten Halbleiterbauelemente geeignet.