Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9260903 zu verkaufen

ID: 9260903
Wafergröße: 12"
Poly etchers, 12" (4) Chambers.
AMAT (APPLIED MATERIALS) AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II ist eine Kernabscheideausrüstung, die für die Dünnschichtabscheidung in verschiedenen Branchen, einschließlich der Herstellung von Elektronik und Sensoren, verwendet wird. Die Kernprozesseinheit DPS II ist als hochanpassungsfähiges und effizientes Abscheidungswerkzeug für eine Vielzahl von Substraten wie Silizium, Oxid, Nitrid und Metallscheiben konzipiert. Es handelt sich um einen in sich geschlossenen UHV-Abscheidungsreaktor mit integrierten elektrischen Durchführungen und Gasförderung. Das UHV-System bietet wiederholbare Qualität für alle Arten von Ablagerungen mit einer breiten Palette von Zielgrößen. Das Gerät ist mit einer präzisen Positionierstufe sowie einer fortschrittlichen Roboterliefermaschine für eine präzise und genaue Waferlieferung ausgestattet. Die internen Prozesskammern enthalten zwei Magnetronkathoden, um eine homogene Filmabscheidung zu gewährleisten. Das Dual-Magnetron-Netz fördert die gleichmäßige Verteilung des Materials, während die mehrstufige Detektion dafür sorgt, dass das Verfahren den gewünschten Vorgaben und Parametern entspricht. Das DPS II verfügt über ein dynamisches Bedienungswerkzeug, das sowohl manuelle als auch automatisierte Prozesssteuerung bietet. Diese Anlage ermöglicht es Benutzern, die Betriebsparameter wie Temperatur, Leistung, Druck, Gasfluss und Reaktionszeit in Echtzeit effizient zu überwachen und anzupassen. Das Modell verfügt auch über adaptive Technologie, die automatisch auf Änderungen in Prozessparametern reagieren kann, wie sie auftreten. Das DPS II beinhaltet auch ein hochauflösendes optisches Mikroskop, das eine visuelle Inspektion des Abscheideprozesses ermöglicht. Dieses Mikroskop kann sowohl Partikel als auch die Bewegung des abgeschiedenen Materials mit hochauflösenden Bildern erfassen. Das Mikroskop enthält auch einen Hintergrundbeleuchter, der etwaige Fehler in der Ablagerung während der Beobachtung erkennen lässt. Das DPS II verfügt über eine breite Palette von prozeßspezifischen Kammern, einschließlich Ionenstrahlsputtern, Atomschichtabscheidung, plasmaverstärkte chemische Dampfabscheidung (PECVD) und Elektronenstrahlverdampfung. Diese umfassende Plattenstapelausrüstung ergänzt die Vielseitigkeit des Abscheidungssystems und ermöglicht die Chargenverarbeitung mehrerer Stapel verschiedener Substrattypen. Insgesamt ist AMAT Centura DPS II ein hochwertiges, flexibles Abscheidewerkzeug für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich der Herstellung von Elektronik, Sensoren und optoelektronischen Geräten. Die integrierten Eigenschaften und die überlegene Abscheidestabilität des Geräts machen es zu einer idealen Lösung sowohl für F&E als auch für die Herstellung anspruchsvoller Elektronik- und Sensorprodukte.
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