Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9293611 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II ist ein fortschrittlicher Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (E-CVD) Reaktor, der in der Halbleiter- und Mikroelektronik-Industrie eingesetzt wird. Der DPS II ist in der Lage, komplexe Dünnschichtstapel auf Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll zu verarbeiten. Der Reaktor ist mit robuster Hardware für hervorragende Leistungs- und Abscheidungsgleichförmigkeit ausgelegt und eignet sich sowohl für nieder- als auch hochfrequente Abscheideprozesse. Der DPS II bietet fortschrittliche Funktionen wie einen Quarz-Top-Liner, eine patentierte Seitenwandverkleidung, die schnelle Reinigungszyklen und lange Laufzeiten ermöglicht, und eine versiegelte Kammer, die Verunreinigungen minimiert und für reproduzierbare Ergebnisse sorgt. Der Reaktor umfasst auch programmierbare Gasstaging und verbesserte Echtzeit-Abstimmbarkeit für die ultimative Prozesssteuerung. Die automatische Endpunkterkennung ermöglicht eine präzise Steuerung von Prozessen wie Multi-Stack Film Deposition. AMAT Centura DPS II verfügt über eine breite Palette von Prozessfähigkeiten, von der Niedertemperatur-Nitrid-Abscheidung für PMOS-Geräte bis hin zu Hochtemperatur-CVD-Oxid für NMOS-Geräte in Speicher- und Logik-VLSI-Technologien. Das System hat auch die Flexibilität, konforme Folien ohne Hilfsunterstützung abzulegen, so dass es für die Abscheidung von hochwertigen Barriere und Schutzfolien geeignet ist. Als Teil der AMAT Centura-Plattform verfügt der DPS II auch über verbesserte Sicherheits- und Umweltfunktionen. Es ist mit automatisierten Sicherheitszonensystemen ausgestattet, die ein potenzielles Leckagerisiko aufgrund der Gaszusammensetzung, des Drucks und der Temperatur erkennen und das System bei Bedarf automatisch abschalten. Dieser Reaktor verfügt auch über einen modularen Aufbau für einfache Upgrades und Wartung, effizientes Gasfahren und automatische Entlüftung, wodurch die manuelle Reinigung oder Evakuierung der Kammer entfällt. Abschließend ist APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II ein fortschrittlicher und zuverlässiger E-CVD Reaktor, der eine hervorragende Leistungs- und Abscheidungsgleichmäßigkeit mit programmierbarer Gasstufe bietet. Seine fortschrittliche Hardware und Sicherheitsfunktionen machen es zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von Abscheideprozessen.