Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9377212 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II
ID: 9377212
Metal etcher.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II ist ein fortschrittlicher, prozessfähiger Reaktor, der auf die Anforderungen vieler Anwendungen in den Bereichen Halbleiter, Dehnungstechnik, Nanotechnologie, optische und energetische Verarbeitung ausgelegt ist. Der Reaktor ist in der Lage, von niedrigen bis zu hohen Temperaturen und Drücken und in einer Vielzahl komplexer Atmosphären mit zahlreichen Materialien und Chemikalien zu arbeiten. Die Kombination aus Multi-Mode-Verarbeitung und fortschrittlicher Automatisierung ermöglicht es dem Reaktor, komplexe Verarbeitungsaufgaben mit Präzision und Wiederholbarkeit durchzuführen. Der Reaktor verfügt über eine Regeleinrichtung, die eine präzise Steuerung der Prozessparameter ermöglicht und eine breite Palette von Prozessanpassungen und Optimierungen ermöglicht. Das Steuerungssystem verfügt über Funktionen wie die automatische Platzierung von Wafern, um eine ordnungsgemäße Positionierung von Wafern zu gewährleisten, und die Fähigkeit, bis zu vier spezifische Ablagerungsrezepte einzurichten, die für wiederholbare Ablagerungsanwendungen gespeichert und zurückgerufen werden können. Der Betrieb des Reaktors wird mit Hardware-Überwachung der Gerätehardware, Temperatur und anderen wichtigen Parametern in Echtzeit überwacht. Die Reaktorkammer ist temperaturgeregelt und kann eine Vielzahl von Ladehardware unterstützen, einschließlich Bulk-Wafer, Substrat und Kassettenladung. Die Kammerkonstruktion ermöglicht schnelle Zykluszeiten und eine gleichmäßige Temperaturverteilung, um einheitliche Verarbeitungsergebnisse zu erzielen. Die zweistufige direkte Erwärmung und indirekte Kühlung reduziert Verschmutzungen und verbessert die Prozessreproduzierbarkeit. Die Kammer weist außerdem eine eingebaute Sicherheitsmaschine auf, die bei Druckverlust der Kammer oder zu geringem Druck den Betrieb abschaltet. AMAT Centura DPS II hat auch optionale zusätzliche Hardware zur Verfügung, wie ein Opacity Monitor zur Überwachung der Filmdicke, oder ein Form-Ozon-Generator erzeugen Ozon für chemische Reaktionen. Der Reaktor weist auch eine optionale Öffnung auf, um eine Inertgaseinleitung während des Abscheidungsprozesses zu ermöglichen. Der Reaktor ist so konzipiert, dass er im Hochvakuum arbeitet und dabei Variabilität in den Prozessparametern und Flexibilität in den Anwendungsrezepten ermöglicht und somit optimale Bedingungen für die Verarbeitung ermöglicht. Angewandte Materialien CENTURA DPS + II ist in der Lage, eine präzise und wiederholbare Verarbeitung in einem breiten Spektrum von Temperaturen und Gasen. Es garantiert qualitativ hochwertige Ergebnisse, die die Standards von Halbleiter-, Dehnungs-, Nanotechnologie-, optischen und Energieverarbeitungsanwendungen übertreffen. Dieser Reaktor ist auf Benutzerfreundlichkeit und Zuverlässigkeit mit fortschrittlichen Automatisierungs- und Steuerungsfunktionen ausgelegt, um einheitliche und effiziente Ergebnisse bei minimaler Wartung und Wartung zu erzielen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor