Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9390587 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II ist eine aktualisierte Version des früheren Centura DPS und ist ein Werkzeug für die Niederdruck-chemische Dampfabscheidung (CVD) und Niederdruck-Metall-organische chemische Dampfabscheidung (MOCVD). Es ist entworfen, um die Anforderungen der fortschrittlichen integrierten Schaltung (IC) Produktion zu erfüllen. Es ermöglicht die kontrollierte und effiziente Abscheidung von Dünnschichtschichten aus Materialien auf einem Substrat und wird zur Herstellung von ICs mit verbesserter Leistung verwendet. AMAT Centura DPS II ist das neueste in einer langen Reihe von AMAT Abscheidungswerkzeugen. Das System ist so konzipiert, dass es beispiellose Gleichmäßigkeit und Vorhersagbarkeit für die Herstellung von Halbleiterbauelementen bietet. Das Werkzeug verwendet Elektronenzyklotronresonanz (ECR) Mikrowellen-Plasmaquelle, um Niederdruck-CVD und MOCVD-Produktion zu ermöglichen. Die ECR-Quelle bietet Niederdruck und hohe Leistungsdichte für eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit über große Substrate. Die Plasmaplume ist für eine maximale konforme Wiederabscheidung aller Materialien optimiert, mit minimaler Unterbrechung der Oberflächenbedingungen auf dem Substrat und hoher Produktivität. Das Werkzeug ist mit einer Reihe von Zubehör zum manuellen oder automatisierten Be- und Entladen von Substraten erhältlich. Es kann je nach Anwendung für den warmen oder kalten Substrattransfer konfiguriert werden. Die Hochgeschwindigkeits- und Präzisionsübertragungsfähigkeiten ermöglichen eine effiziente Produktion hochwertiger Dünnschichten. Das Tool ist auch mit fortschrittlichen Sensoren für die Echtzeit-Überwachung von Prozessparametern ausgestattet. Das Überwachungssystem ist hochpräzise und vermittelt dem Bediener ein genaues Verständnis des aktuellen Produktionsstatus. ANGEWANDTE MATERIALIEN CENTURA DPS + II ist ein fortschrittliches Werkzeug, das entwickelt wurde, um eine überlegene Produktion von fortschrittlichen integrierten Schaltungen in Niederdruck-CVD- und MOCVD-Prozessen bereitzustellen. Es ist in der Lage, präzise Prozesskontrolle und Gleichmäßigkeit über große Substrate. Mit fortschrittlicher Echtzeit-Überwachung von Prozessparametern und effizienten Transferfunktionen sind die Bediener in der Lage, hochwertige dünne Filme mit ausgezeichneten Erträgen zu produzieren. Dieses Werkzeug ist ideal für eine Produktionsumgebung, die eine hohe Präzision und Gleichmäßigkeit der Produktion in Niederdruck-CVD- und MOCVD-Prozessen erfordert.