Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9390588 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II
ID: 9390588
Etcher Process: Metal, W.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II Reaktor ist ein Mehrzonen-Schnellreaktorsystem für die Halbleiterherstellung. Es wird in den verschiedensten Verfahren eingesetzt, von der Abscheidung über die Dotierung, Dünnschichtoxidation bis zum Ätzen. Das DPS II arbeitet bei hoher Temperatur und ermöglicht eine schnelle thermische Verarbeitung (RTP), ein wesentlicher Schritt in der modernen Halbleiterherstellung. Es kann Temperaturen von bis zu 1150 ° C in Sekunden erreichen, weit höher als herkömmliche Ofensysteme. Dadurch ermöglicht sie eine engmaschige Steuerung der Prozessbedingungen auf Nanometerebene und ermöglicht die Entwicklung innovativer Hochleistungsgeräte. Die Mehrzonenkonfiguration des DPS II umfasst drei unabhängige Verarbeitungszonen - einen integrierten widerstandsbeheizten Suszeptor, eine Infrarot-Heizlampe und eine Oxidationskammer. Diese Konstruktion führt zu einer überlegenen Kontrolle der Prozessbedingungen sowie zu einem kleineren Fußdruck und einem kostengünstigen Betrieb. Darüber hinaus ermöglichen die verschiedenen unabhängigen Temperaturzonen dem Anwender, das optimale thermische Profil für einen bestimmten Prozess zu definieren. Das System verfügt auch über Adaptive Process Control (APC), eine proprietäre Technologie, die eine gleichmäßige Verarbeitung durch dynamische Anpassung des Temperatur- und Druckprofils an die sich ändernden Prozessbedingungen gewährleistet. Dadurch werden die unerwünschten Nebenwirkungen einer schnellen thermischen Verarbeitung (RTP) wie Arsentrennung, Partikelverunreinigung und Quantisierung von Mikrostrukturen minimiert. Das DPS II nutzt auch fortschrittliche optische und spektrometrische Rückkopplungssysteme, um das thermische Profil zu automatisieren und die Prozessparameter in Echtzeit zu optimieren. Dies ermöglicht dem Anwender, den optimalen Prozess schnell zu definieren, und hilft, ein hohes Maß an Ertrag und Produktqualität zu gewährleisten. Schließlich eignet sich das DPS II auch für komplexe Prozessintegration und Automatisierung. Es verwendet sowohl Standard- als auch proprietäre Softwareprotokolle sowie eine Vielzahl von Schnittstellenoptionen, einschließlich Networked I/O und EtherCAT. Dies ermöglicht die Überwachung von Prozessvariablen in Echtzeit und die Integration mit externen Systemen, was den Betrieb des Reaktors erheblich vereinfacht und maximale Betriebseffizienz ermöglicht.
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