Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9390589 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II ist ein Hochvakuum, Dual-Single-Wafer-Handling-Reaktor für Halbleiterverarbeitungsanwendungen. Es bietet Anwendern eine komplette Palette von Tools für kritische Ätz- und Ablagerungsprozesse. Mit innovativer Technologie ist sie in der Lage, präzise und konsistente Endergebnisse zu erzielen. Der DPS II ist mit einer geschlossenen Kammer ausgestattet, die in Kombination mit einer „toroiden“ Plasmaquelle arbeitet, um eine gleichmäßige Hochtemperatur-Plasmabearbeitung und maximale Prozessgleichförmigkeit zu erreichen. Auch dieses geschlossene Kammersystem minimiert die reaktive Gasausnutzung, was den Einheitendurchsatz erhöht. Es ist mit 3 unabhängigen Tasten aufgebaut, um die manuelle Bedienung zu ermöglichen und höhere Sicherheit bei der Bedienung der Maschine zu gewährleisten. Der DPS II wurde entwickelt, um fortschrittliche mikroelektronische Geräte zu reparieren. Es verfügt über benutzerfreundliche, programmierbare Bedienelemente mit dedizierten Fenstern und touchgesteuerten Menübildschirmen. Ein einfacher Auswahlprozess ermöglicht eine einfache Chargenauswahl von Wafern und die automatische Validierung von Parametern vor jedem Durchlauf. Dieser Reaktor enthält auch eine PECVD-Fähigkeit, die eine weitere Prozesserweiterung ermöglicht. Das Design des Werkzeugs bietet eine hohe Kompatibilität. Es ist kompatibel mit einer Vielzahl von Materialien, wie Siliziumoxid, Siliziumnitrid, Low-k-Dielektrika, Spin-on-Dielektrikum, Polysilizium, Siliziumkarbid und Silizium Germanium. Die Ultra-Niederdruck-Technologie sorgt für eine exzellente Gewebetechnik für zuverlässige und effiziente Prozesse. Die patentierte Close-Proximity Power Asset erzeugt eine hochwirksame Plasmahülle um den Wafer, die höhere Ionenenergie beim Ätzen und Abscheiden ermöglicht. Dies führt zu einer besseren Reinigung und Ätzselektivität. Sein thermisches Regelungsmodell ermöglicht eine präzise Regelung der Kammertemperatur in kürzester Zeit. Das fortschrittliche Materiallieferungssystem der Ausrüstung bietet eine zuverlässige und konsistente Materiallieferung. Der DPS II ist in der Lage, bis zu 3UF Spektrometer gleichzeitig zu betreiben, so dass Benutzer Abscheidungsraten, Gleichmäßigkeit und Zusammensetzung in Echtzeit messen, überwachen und steuern können. Es enthält erweiterte Wafer-Handhabungsfunktionen, wie verbesserte Endpunkterkennung für die Prozessabstimmung. Die hocheffizienten Lastschlösser sorgen zudem für einen höheren Durchsatz. Das Gerät ist auch einfach zu warten, verfügt über Benutzer-Wartungsteile und Benutzer Top-Down-Reinigung. Die oberen und unteren Wärmeplatten bieten eine schnelle und zuverlässige Erwärmung für Prozesse, die nicht von einer heißen Temperatur profitieren. Die erweiterte Sicherheitskonfiguration erschwert den Zugriff auf sensible Daten. Abschließend ist AMAT Centura DPS II ein Einzelwafer-Hochvakuumreaktor, der für die effiziente Verarbeitung von mikroelektronischen Hochleistungsgeräten entwickelt wurde. Es verfügt über verschiedene innovative Technologien, programmierbare Steuerungen, hohe Kompatibilität mit verschiedenen Materialien und erweiterte Sicherheitsfunktionen. Auch dieser Reaktor ist wartungsfreundlich und bietet einen hohen Durchsatz für eine effiziente Produktion.